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■ 2023年 出願公開件数ランキング 第951位 28件
(2022年:第661位 43件)
■ 2023年 特許取得件数ランキング 第1428位 14件
(2022年:第725位 34件)
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特許 7393136 | ビス(ジアザジエン)コバルト化合物、合成方法、コバルト含有膜の堆積方法、コバルトの選択的堆積方法、コバルト含有膜および容器 | 2023年12月 6日 | |
特許 7388842 | 低ディッシングおよび低浸食トポグラフィを伴うタングステン化学機械平坦化(CMP) | 2023年11月29日 | |
特許 7364462 | エチレンジアミンを処理するための方法ならびに半導体用途のための高純度エチレンジアミン | 2023年10月18日 | |
特許 7329045 | 高品質酸化ケイ素薄膜の高温原子層堆積のための組成物 | 2023年 8月17日 | |
特許 7323511 | アルコキシシラ環式又はアシルオキシシラ環式化合物を含む組成物及びそれを使用してフィルムを堆積させるための方法 | 2023年 8月 8日 | |
特許 7288500 | 安定性のアルケニル又はアルキニル含有有機ケイ素前駆体組成物 | 2023年 6月 7日 | |
特許 7288501 | ケイ素含有表面への選択的堆積 | 2023年 6月 7日 | |
特許 7274578 | 1-メチル-1-イソ-プロポキシ-シラシクロアルカン及びそれから製造される緻密有機シリカ膜 | 2023年 5月16日 | |
特許 7256263 | ケイ素含有膜の高温原子層堆積 | 2023年 4月11日 | |
特許 7240346 | 銅及びスルーシリコンビア用途のための化学機械研磨 | 2023年 3月15日 | |
特許 7230067 | シロキサン組成物、及び前記組成物を使用してケイ素含有膜を堆積させるための方法 | 2023年 2月28日 | |
特許 7230126 | 強誘電体材料としてのケイ素ドープ酸化ハフニウムの堆積のための新規配合物 | 2023年 2月28日 | |
特許 7209010 | スピンオンメタライゼーション | 2023年 1月19日 | |
特許 7202423 | 強誘電体材料としてのケイ素ドープ酸化ハフニウムの堆積のための新規配合物 | 2023年 1月11日 |
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7393136 7388842 7364462 7329045 7323511 7288500 7288501 7274578 7256263 7240346 7230067 7230126 7209010 7202423
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3月21日(金) -
3月21日(金) -
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3月21日(金) -
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3月25日(火) -
3月26日(水) - 東京 港区
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