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バーサム　マテリアルズ　ユーエス，リミティド　ライアビリティ　カンパニー

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バーサム　マテリアルズ　ユーエス，リミティド　ライアビリティ　カンパニーの商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特許 7393136	ビス（ジアザジエン）コバルト化合物、合成方法、コバルト含有膜の堆積方法、コバルトの選択的堆積方法、コバルト含有膜および容器	2023年12月 6日
特許 7388842	低ディッシングおよび低浸食トポグラフィを伴うタングステン化学機械平坦化（ＣＭＰ）	2023年11月29日
特許 7364462	エチレンジアミンを処理するための方法ならびに半導体用途のための高純度エチレンジアミン	2023年10月18日
特許 7329045	高品質酸化ケイ素薄膜の高温原子層堆積のための組成物	2023年 8月17日
特許 7323511	アルコキシシラ環式又はアシルオキシシラ環式化合物を含む組成物及びそれを使用してフィルムを堆積させるための方法	2023年 8月 8日
特許 7288500	安定性のアルケニル又はアルキニル含有有機ケイ素前駆体組成物	2023年 6月 7日
特許 7288501	ケイ素含有表面への選択的堆積	2023年 6月 7日
特許 7274578	１－メチル－１－イソ－プロポキシ－シラシクロアルカン及びそれから製造される緻密有機シリカ膜	2023年 5月16日
特許 7256263	ケイ素含有膜の高温原子層堆積	2023年 4月11日
特許 7240346	銅及びスルーシリコンビア用途のための化学機械研磨	2023年 3月15日
特許 7230067	シロキサン組成物、及び前記組成物を使用してケイ素含有膜を堆積させるための方法	2023年 2月28日
特許 7230126	強誘電体材料としてのケイ素ドープ酸化ハフニウムの堆積のための新規配合物	2023年 2月28日
特許 7209010	スピンオンメタライゼーション	2023年 1月19日
特許 7202423	強誘電体材料としてのケイ素ドープ酸化ハフニウムの堆積のための新規配合物	2023年 1月11日

14 件中 1-14 件を表示

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7393136 7388842 7364462 7329045 7323511 7288500 7288501 7274578 7256263 7240346 7230067 7230126 7209010 7202423

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