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| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 6983854 | 酸化ケイ素腐食防止剤を有するエッチング溶液、及びその使用方法 | 2021年12月17日 | |
| 特許 6980821 | 調節可能な酸化ケイ素及び窒化ケイ素除去速度を有するシャロートレンチアイソレーション(STI)化学機械平坦化(CMP)研磨 | 2021年12月15日 | |
| 特許 6974417 | 気相堆積のための低ハロゲン化物ランタン前駆体 | 2021年12月 1日 | |
| 特許 6974394 | 低酸化物トレンチディッシング化学機械研磨 | 2021年12月 1日 | |
| 特許 6970213 | ケイ素含有膜の堆積のためのオルガノアミノ−ポリシロキサン | 2021年11月24日 | |
| 特許 6963684 | 半導体装置の製造においてケイ素−ゲルマニウム/ケイ素積層体からケイ素およびケイ素−ゲルマニウム合金を同時に除去するためのエッチング溶液 | 2021年11月10日 | |
| 特許 6959304 | ケイ素及び窒素を含有する膜を製造する方法 | 2021年11月 2日 | |
| 特許 6959147 | ハライドシラン化合物及び組成物並びにそれを使用してケイ素含有膜を堆積するためのプロセス | 2021年11月 2日 | |
| 特許 6959334 | 高密度OSG膜用シリル架橋アルキル化合物の使用 | 2021年11月 2日 | |
| 特許 6959368 | ガス供給装置 | 2021年11月 2日 | |
| 特許 6949912 | ケイ素含有膜の堆積のための組成物及びそれを使用した方法 | 2021年10月13日 | |
| 特許 6944486 | フォトレジストストリッピング組成物及び方法 | 2021年10月 6日 | |
| 特許 6942722 | 基材から材料を除去するための水溶液及びプロセス | 2021年 9月29日 | |
| 特許 6940557 | 酸化物エロージョン低減のためのタングステン化学機械研磨 | 2021年 9月29日 | |
| 特許 6932683 | エッチング液及びその使用方法 | 2021年 9月 8日 |
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6983854 6980821 6974417 6974394 6970213 6963684 6959304 6959147 6959334 6959368 6949912 6944486 6942722 6940557 6932683
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AI Native知財 - 私たちはどう生きるか? - 楠浦崇央 氏(TechnoProducer株式会社 代表取締役/発明塾 塾長) x 弁理士木本大介(リーガルテック株式会社アドバイザー)
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企業の知財部員がすべき「知財実務手順の対応」 ~特許出願から明細書作成のノウハウ及び先行技術調査の基礎、特許権侵害の実務対応~
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