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バーサム　マテリアルズ　ユーエス，リミティド　ライアビリティ　カンパニー

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バーサム　マテリアルズ　ユーエス，リミティド　ライアビリティ　カンパニーの商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特表 2025-542167	両親媒性研磨材粒子及び化学機械平坦化のためのそれらの使用	2025年12月25日
特開 2025-186278	薄膜堆積のための新規のＶ族及びＶＩ族遷移金属前駆体	2025年12月23日
特開 2025-172963	加熱バルブ多岐管組立品を有するシステム、そのシステムの製造方法	2025年11月26日
特表 2025-538216	ＦＥＦＥＴデバイス、システムおよび製造方法	2025年11月26日
特表 2025-537528	選択的堆積のための高純度アルキニルアミン	2025年11月18日
特表 2025-537314	気相薄膜堆積技術のための熱安定性が改善された分子内安定化第１３族金属複合体	2025年11月14日
特表 2025-537320	気相薄膜堆積技術のための熱安定性が改善された分子内安定化金属複合体	2025年11月14日
特表 2025-535687	グアニジニウム系ポリイオン液体及び化学機械的平坦化スラリー用添加剤としてのその使用	2025年10月28日
特表 2025-535763	クロロシランとアミノシランの反応から低温堆積されたＳｉ含有膜	2025年10月28日
特表 2025-534601	化学機械平坦化におけるスラリーのための異なるカチオンタイプを有する修飾水溶性多糖	2025年10月17日
特表 2025-527797	気相薄膜堆積プロセスのための前駆体としての多置換シクロペンタジエニル希土類錯体	2025年 8月22日
特表 2025-525934	モリブデン含有膜の堆積のための液体モリブデンビス（アレーン）組成物	2025年 8月 7日
特表 2025-524694	バックエンド（ｂａｃｋ－ｅｎｄ－ｏｆ－ｌｉｎｅ、ＢＥＯＬ）適合プロセスを用いたハフニア系酸化物における強誘電体性能強化のための下部電極の最適化	2025年 7月30日
特開 2025-87745	半導体素子製造時に窒化ケイ素を選択的に除去するためのエッチング組成物及びエッチング方法	2025年 6月10日
特表 2025-517471	ポリシリコンエッチング用に配合されたアルカリ化学物質	2025年 6月 5日

24 件中 1-15 件を表示

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2025-542167 2025-186278 2025-172963 2025-538216 2025-537528 2025-537314 2025-537320 2025-535687 2025-535763 2025-534601 2025-527797 2025-525934 2025-524694 2025-87745 2025-517471

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