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バーサム マテリアルズ ユーエス，リミティド ライアビリティ カンパニー
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2025年：第1097位 21件）
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（
2025年：第977位 21件）
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バーサム マテリアルズ ユーエス，リミティド ライアビリティ カンパニーの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特表 2026-530336 | メモリ及び共有の書き込みポートを有する集積回路 | 2026年 9月 8日 | |
| 特表 2026-529627 | ウェハスケールメモリ用のシステム、方法、及び装置 | 2026年 9月 1日 | |
| 特表 2026-529617 | 集積回路におけるアモルファス酸化物半導体チャネルを使用したＦｅＦＥＴ構造 | 2026年 9月 1日 | |
| 特表 2026-529411 | アルキンを利用した金属上の誘電体上へのアルミニウム含有誘電体材料の選択的堆積 | 2026年 8月31日 | |
| 特表 2026-528932 | 安定化されたオルガノシラン組成物及びそれを用いて緻密低ｋ膜を形成する方法 | 2026年 8月26日 | |
| 特表 2026-528920 | フェース－フェース接合のためのコレクトバイコンストラクションのタイミング収束を伴うシステム及び方法 | 2026年 8月26日 | |
| 特表 2026-527827 | フェース－フェース接合チップレットの既知の優良ダイの試験性に関する方法及びシステム | 2026年 8月18日 | |
| 特表 2026-527826 | マイクロヴォルトメモリを有する集積回路 | 2026年 8月18日 | |
| 特表 2026-526327 | アルコールを利用したケイ素含有表面上への金属膜の領域選択的堆積 | 2026年 8月 7日 | |
| 特開 2026-110641 | ケイ素含有薄膜の堆積のための有機アミノ官能基を有する環式オリゴシロキサン | 2026年 7月 2日 | |
| 特開 2026-95704 | シリコン及びホウ素を含む膜用の組成物及びそれを用いる方法 | 2026年 6月11日 | |
| 特表 2026-517429 | トランジスタチャネルの特性を最適化するためのデバイス、システム、及び方法 | 2026年 5月29日 | |
| 特表 2026-517262 | アルコールを用いたシリコン含有表面上への誘電体膜の領域選択的堆積 | 2026年 5月28日 | |
| 特表 2026-516336 | タングステンと両立性を有するＴｉＮハードマスク除去用組成物 | 2026年 5月21日 | |
| 特表 2026-514156 | クロロシリル置換シラシクロアルカン、及びケイ素と酸素とを含む膜の形成のためのその使用 | 2026年 5月 1日 |
25 件中 1-15 件を表示
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2026-530336 2026-529627 2026-529617 2026-529411 2026-528932 2026-528920 2026-527827 2026-527826 2026-526327 2026-110641 2026-95704 2026-517429 2026-517262 2026-516336 2026-514156
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