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バーサム　マテリアルズ　ユーエス，リミティド　ライアビリティ　カンパニー

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バーサム　マテリアルズ　ユーエス，リミティド　ライアビリティ　カンパニーの商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特許 7603075	従量式同軸バルブブロック	2024年12月19日
特許 7598360	ケイ素含有膜の堆積のためのシラシクロアルカンを含む組成物及びその組成物を使用する方法	2024年12月11日
特許 7586837	酸化ケイ素薄膜の高温原子層堆積のための有機アミノジシラザン	2024年11月19日
特許 7580909	シャロートレンチアイソレーション（ＳＴＩ）の化学機械平坦化研磨（ＣＭＰ）において酸化物／窒化物選択性を高め、酸化物トレンチのディッシングを低く均一化する方法	2024年11月12日
特許 7572345	高成長速度ケイ素含有膜の前駆体としての官能化シクロシラザン	2024年10月23日
特許 7568714	ケイ素化合物、及びそのケイ素化合物を使用する膜を堆積するための方法	2024年10月16日
特許 7566895	半導体素子製造時に窒化ケイ素を選択的に除去するためのエッチング組成物及びエッチング方法	2024年10月15日
特許 7566003	エッチング残留物を除去するための組成物、その使用の方法及びその使用	2024年10月11日
特許 7565948	熱堆積ケイ素含有膜のための組成物およびそれを用いる方法	2024年10月11日
特許 7557532	高い酸化物除去速度を有するシャロートレンチアイソレーション化学的機械平坦化組成物	2024年 9月27日
特許 7554755	ケイ素含有膜のための組成物及びその組成物を使用する方法	2024年 9月20日
特許 7553454	炭素ドープされた酸化ケイ素の堆積	2024年 9月18日
特許 7544737	脱気装置、脱気システム及びそれらを使用する方法	2024年 9月 3日
特許 7527313	半導体デバイスの製造中にｐ－ドープされたシリコン及びシリコン―ゲルマニウムに対してポリシリコンを選択的に除去するための液体組成物	2024年 8月 2日
特許 7526732	酸化ハフニウム腐食抑制剤	2024年 8月 1日

19 件中 1-15 件を表示

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7603075 7598360 7586837 7580909 7572345 7568714 7566895 7566003 7565948 7557532 7554755 7553454 7544737 7527313 7526732

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