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■ 2018年 出願公開件数ランキング 第928位 29件 (2017年:第2121位 11件)
■ 2018年 特許取得件数ランキング 第899位 23件 (2017年:第2056位 8件)
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特許 6445375 | 有機アミノジシラン前駆体、及びそれを含む膜の堆積方法 | 2018年12月26日 | |
特許 6437962 | 13族金属又は半金属の窒化物膜の堆積方法 | 2018年12月12日 | |
特許 6430925 | シリコンパッシベーションの改善された半水性フォトレジスト又は半導体製造残留物剥離及び洗浄用組成物 | 2018年11月28日 | |
特許 6426538 | アルキルアルコキシシラ環状化合物及びそれを用いた膜の堆積方法 | 2018年11月21日 | |
特許 6408506 | 窒化チタンハードマスクの選択的除去及びエッチング残留物の除去 | 2018年10月17日 | |
特許 6404540 | 有機アミノシラン前駆体、並びにその製造方法及び使用方法 | 2018年10月10日 | |
特許 6371322 | 多成分膜の製造方法 | 2018年 8月 8日 | |
特許 6359999 | ケイ素含有膜を調製するための方法 | 2018年 7月18日 | |
特許 6356630 | 酸素不含ケイ素系膜及びその形成方法 | 2018年 7月11日 | |
特許 6339555 | 高いWN/W選択率を有するストリッピング組成物 | 2018年 6月 6日 | |
特許 6334474 | シャロートレンチアイソレーション(STI)用の化学機械研磨(CMP)組成物、及びその製造方法 | 2018年 5月30日 | |
特許 6325613 | 化学気相成長用組成物 | 2018年 5月16日 | |
特許 6317377 | ビスアミノアルコキシシラン化合物及びケイ素含有膜を堆積するためのその使用法 | 2018年 4月25日 | |
特許 6309999 | 窒化チタンハードマスク及びエッチ残留物除去 | 2018年 4月11日 | |
特許 6310018 | ハロゲン化オルガノアミノシラン前駆体及びそれを含む膜の堆積方法 | 2018年 4月11日 |
23 件中 1-15 件を表示
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6445375 6437962 6430925 6426538 6408506 6404540 6371322 6359999 6356630 6339555 6334474 6325613 6317377 6309999 6310018
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