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■ 2022年 出願公開件数ランキング 第661位 43件 (2021年:第1583位 15件)
■ 2022年 特許取得件数ランキング 第725位 34件 (2021年:第590位 38件)
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特許 7193478 | 高成長速度ケイ素含有膜の前駆体としての官能化シクロシラザン | 2022年12月20日 | |
特許 7182680 | ケイ素及び窒素を含有する膜を製造する方法 | 2022年12月 2日 | |
特許 7177209 | 有機アミノジシラン前駆体、及びそれを含む膜の堆積方法 | 2022年11月22日 | |
特許 7153100 | 炭素ドープケイ素含有膜のための組成物およびそれを用いた方法 | 2022年10月13日 | |
特許 7152576 | ケイ素含有膜の堆積のための組成物及びそれを使用した方法 | 2022年10月12日 | |
特許 7141426 | ケイ素含有膜の堆積のための有機アミノ官能化直鎖状及び環状オリゴシロキサン | 2022年 9月22日 | |
特許 7139475 | ケイ素含有膜の堆積のための組成物及びそれを用いた方法 | 2022年 9月20日 | |
特許 7130608 | 化学機械平坦化組成物用の複合研磨粒子及びその使用方法 | 2022年 9月 5日 | |
特許 7126973 | タングステン含有金属およびTiN含有材料の両方に好適なエッチング溶液 | 2022年 8月29日 | |
特許 7125515 | 組成物、及びケイ素含有膜の堆積のための組成物を使用する方法 | 2022年 8月24日 | |
特許 7121696 | 低酸化物トレンチディッシング化学機械研磨 | 2022年 8月18日 | |
特許 7100698 | 乾燥中の高アスペクト比構造の崩壊を防止するための組成物および方法 | 2022年 7月13日 | |
特許 7092709 | ケイ素含有膜の高温原子層堆積 | 2022年 6月28日 | |
特許 7085561 | ケイ素含有表面への選択的堆積 | 2022年 6月16日 | |
特許 7079322 | ストリッパー溶液及びストリッパー溶液の使用方法 | 2022年 6月 1日 |
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7193478 7182680 7177209 7153100 7152576 7141426 7139475 7130608 7126973 7125515 7121696 7100698 7092709 7085561 7079322
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11月22日(金) -
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11月22日(金) - 東京 港区
11月22日(金) -
11月22日(金) - 大阪 大阪市
11月22日(金) -
11月22日(金) -
11月25日(月) -
11月25日(月) - 岐阜 各務原市
11月26日(火) -
11月26日(火) - 東京 港区
11月26日(火) -
11月26日(火) -
11月26日(火) -
11月27日(水) - 東京 港区
11月27日(水) -
11月27日(水) -
11月27日(水) -
11月27日(水) -
11月28日(木) - 東京 港区
11月28日(木) - 島根 松江市
11月28日(木) - 京都 京都市
11月28日(木) -
11月28日(木) - 大阪 大阪市
11月28日(木) -
11月29日(金) - 東京 港区
11月29日(金) - 茨城 ひたちなか市
11月30日(土) -
12月1日(日) -
12月1日(日) -
11月25日(月) -