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■ 2023年 出願公開件数ランキング 第951位 28件 (2022年:第661位 43件)
■ 2023年 特許取得件数ランキング 第1428位 14件 (2022年:第725位 34件)
(ランキング更新日:2025年1月31日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特開 2023-182658 | 炭素ドープケイ素含有膜のための組成物及びそれを使用する方法 | 2023年12月26日 | |
特表 2023-553386 | 選択的プラズマ強化原子層堆積 | 2023年12月21日 | |
特表 2023-552752 | 選択的熱原子層堆積 | 2023年12月19日 | |
特開 2023-171856 | 半導体素子製造時に窒化ケイ素を選択的に除去するためのエッチング組成物及びエッチング方法 | 2023年12月 5日 | |
特表 2023-550351 | ケイ素及び酸素を含有する誘電体膜の誘電体への選択的堆積 | 2023年12月 1日 | |
特表 2023-546911 | アルコキシジシロキサン、及びそれから製造される緻密なオルガノシリカ膜 | 2023年11月 8日 | |
特表 2023-546647 | 電極取り付け組立品、セル及び使用の方法 | 2023年11月 7日 | |
特開 2023-145538 | 有機アミノシラン前駆体およびこれを含む膜の堆積方法 | 2023年10月11日 | |
特表 2023-542352 | 誘電体膜の特性を向上させる添加剤 | 2023年10月 6日 | |
特表 2023-542236 | ゲルマニウムシード層のための組成物およびそれを使用する方法 | 2023年10月 5日 | |
特表 2023-542000 | 複数のタンク用の供給制御システム | 2023年10月 4日 | |
特表 2023-541683 | 材料供給システム | 2023年10月 3日 | |
特表 2023-540004 | 加熱バルブ多岐菅組立品を有するシステム、そのシステムの製造方法 | 2023年 9月21日 | |
特表 2023-539624 | ポスト化学機械平坦化(CMP)洗浄 | 2023年 9月15日 | |
特表 2023-536850 | 銅及びスルーシリコンビア(TSV)化学機械平坦化(CMP)のためのパッドインボトル(PIB)技術 | 2023年 8月30日 |
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2023-182658 2023-553386 2023-552752 2023-171856 2023-550351 2023-546911 2023-546647 2023-145538 2023-542352 2023-542236 2023-542000 2023-541683 2023-540004 2023-539624 2023-536850
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2月4日(火) - 東京 港区
2月4日(火) - 神奈川 川崎市
2月4日(火) -
2月4日(火) -
2月5日(水) - 東京 港区
2月5日(水) -
2月5日(水) -
2月5日(水) -
2月6日(木) - 東京 港区
2月6日(木) -
2月7日(金) -
2月7日(金) - 東京 港区
2月7日(金) - 神奈川 横浜市
2月7日(金) -
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