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バーサム マテリアルズ ユーエス,リミティド ライアビリティ カンパニー

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  2023年 出願公開件数ランキング    第951位 28件 下降2022年:第661位 43件)

  2023年 特許取得件数ランキング    第1428位 14件 下降2022年:第725位 34件)

(ランキング更新日:2024年11月25日)筆頭出願人である出願のみカウントしています

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公報番号発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)公報発行日備考
特開 2023-182658 炭素ドープケイ素含有膜のための組成物及びそれを使用する方法 2023年12月26日
特表 2023-553386 選択的プラズマ強化原子層堆積 2023年12月21日
特表 2023-552752 選択的熱原子層堆積 2023年12月19日
特開 2023-171856 半導体素子製造時に窒化ケイ素を選択的に除去するためのエッチング組成物及びエッチング方法 2023年12月 5日
特表 2023-550351 ケイ素及び酸素を含有する誘電体膜の誘電体への選択的堆積 2023年12月 1日
特表 2023-546911 アルコキシジシロキサン、及びそれから製造される緻密なオルガノシリカ膜 2023年11月 8日
特表 2023-546647 電極取り付け組立品、セル及び使用の方法 2023年11月 7日
特開 2023-145538 有機アミノシラン前駆体およびこれを含む膜の堆積方法 2023年10月11日
特表 2023-542352 誘電体膜の特性を向上させる添加剤 2023年10月 6日
特表 2023-542236 ゲルマニウムシード層のための組成物およびそれを使用する方法 2023年10月 5日
特表 2023-542000 複数のタンク用の供給制御システム 2023年10月 4日
特表 2023-541683 材料供給システム 2023年10月 3日
特表 2023-540004 加熱バルブ多岐菅組立品を有するシステム、そのシステムの製造方法 2023年 9月21日
特表 2023-539624 ポスト化学機械平坦化(CMP)洗浄 2023年 9月15日
特表 2023-536850 銅及びスルーシリコンビア(TSV)化学機械平坦化(CMP)のためのパッドインボトル(PIB)技術 2023年 8月30日

28 件中 1-15 件を表示

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2023-182658 2023-553386 2023-552752 2023-171856 2023-550351 2023-546911 2023-546647 2023-145538 2023-542352 2023-542236 2023-542000 2023-541683 2023-540004 2023-539624 2023-536850

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