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バーサム マテリアルズ ユーエス，リミティド ライアビリティ カンパニー
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■ 2022年 出願公開件数ランキング 第661位 43件
（
2021年：第1583位 15件）
■ 2022年 特許取得件数ランキング 第725位 34件
（
2021年：第590位 38件）
（ランキング更新日：2025年5月9日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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バーサム マテリアルズ ユーエス，リミティド ライアビリティ カンパニーの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特表 2022-553203 | ＥＵＶマスク保護構造のためのエッチング組成物及び方法 | 2022年12月22日 | |
| 特表 2022-553105 | 高い酸化物除去速度を有するシャロートレンチアイソレーション化学的機械平坦化組成物 | 2022年12月21日 | |
| 特開 2022-179494 | ケイ素含有膜の堆積のための有機アミノ官能化直鎖状及び環状オリゴシロキサン | 2022年12月 2日 | |
| 特表 2022-550365 | ポストエッチング残留物を除去するための組成物、その組成物を使用する方法、及びその組成物の使用 | 2022年12月 1日 | |
| 特表 2022-550171 | 半導体素子製造時に窒化ケイ素を選択的に除去するためのエッチング組成物及びエッチング方法 | 2022年11月30日 | |
| 特表 2022-549517 | 低ディッシングの、銅の化学機械平坦化 | 2022年11月25日 | |
| 特表 2022-549372 | フォトレジスト除去剤 | 2022年11月24日 | |
| 特表 2022-548986 | 平坦化におけるダイ内不均一性 | 2022年11月22日 | |
| 特表 2022-548021 | モノアルコキシシラン、及びそれから作られる高密度の有機シリカ膜 | 2022年11月16日 | |
| 特表 2022-548037 | ケイ素ドープ酸化ハフニウムの堆積のための配合物 | 2022年11月16日 | |
| 特表 2022-547588 | モノアルコキシシラン及びジアルコキシシラン、並びにそれらから作られる高密度の有機シリカ膜 | 2022年11月14日 | |
| 特表 2022-546867 | ケイ素含有膜の非コンフォーマル性堆積のための組成物、及びその組成物を使用する方法 | 2022年11月 9日 | |
| 特表 2022-544951 | ケイ素化合物、及びそのケイ素化合物を使用する膜を堆積するための方法 | 2022年10月24日 | |
| 特開 2022-161979 | 組成物、及びケイ素含有膜の堆積のための組成物を使用する方法 | 2022年10月21日 | |
| 特開 2022-153428 | アルコキシシラ環式又はアシルオキシシラ環式化合物及びそれを使用してフィルムを堆積させるための方法 | 2022年10月12日 |
43 件中 1-15 件を表示
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2022-553203 2022-553105 2022-179494 2022-550365 2022-550171 2022-549517 2022-549372 2022-548986 2022-548021 2022-548037 2022-547588 2022-546867 2022-544951 2022-161979 2022-153428
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