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バーサム　マテリアルズ　ユーエス，リミティド　ライアビリティ　カンパニー

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バーサム　マテリアルズ　ユーエス，リミティド　ライアビリティ　カンパニーの商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特開 2020-205425	複合材粒子、その精製方法及びその使用	2020年12月24日
特表 2020-536379	乾燥中の高アスペクト比構造の崩壊を防止するための組成物および方法	2020年12月10日
特表 2020-536377	半導体装置の製造においてケイ素−ゲルマニウム／ケイ素積層体からケイ素およびケイ素−ゲルマニウム合金を同時に除去するためのエッチング溶液	2020年12月10日
特表 2020-536138	ストリッパー溶液及びストリッパー溶液の使用方法	2020年12月10日
特表 2020-534688	シリコン含有膜堆積用の組成物及び方法	2020年11月26日
特表 2020-532867	アルコキシシラ環式又はアシルオキシシラ環式化合物及びそれを使用してフィルムを堆積させるための方法	2020年11月12日
特開 2020-164877	銅及びシリカ貫通電極（ＴＳＶ）用途のための化学機械平坦化（ＣＭＰ）組成物並びにその方法	2020年10月 8日
特開 2020-141137	銅及びスルーシリコンビア用途のための化学機械研磨	2020年 9月 3日
特開 2020-139144	シャロートレンチアイソレーション化学機械研磨スラリー	2020年 9月 3日
特開 2020-128407	ケイ素含有膜の堆積のための有機アミノ官能化直鎖状及び環状オリゴシロキサン	2020年 8月27日
特開 2020-122144	調節可能な酸化ケイ素及び窒化ケイ素除去速度を有するシャロートレンチアイソレーション（ＳＴＩ）化学機械平坦化（ＣＭＰ）研磨	2020年 8月13日
特表 2020-524403	ガス供給装置	2020年 8月13日
特開 2020-118662	容器の乾燥及び分析試験のためのシステム及び方法	2020年 8月 6日
特開 2020-117709	低研磨材濃度及び化学添加剤の組み合わせを有するシャロートレンチアイソレーション（ＳＴＩ）化学機械平坦化（ＣＭＰ）研磨	2020年 8月 6日
特表 2020-521749	高成長速度ケイ素含有膜の前駆体としての官能化シクロシラザン	2020年 7月27日

43 件中 1-15 件を表示

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2020-205425 2020-536379 2020-536377 2020-536138 2020-534688 2020-532867 2020-164877 2020-141137 2020-139144 2020-128407 2020-122144 2020-524403 2020-118662 2020-117709 2020-521749

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