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■ 2018年 出願公開件数ランキング 第928位 29件
(
2017年:第2121位 11件)
■ 2018年 特許取得件数ランキング 第899位 23件
(
2017年:第2056位 8件)
(ランキング更新日:2026年4月20日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特開 2018-207108 | 半導体デバイスの製造中に窒化ケイ素を選択的に除去するためのエッチング溶液 | 2018年12月27日 | |
| 特開 2018-201037 | アルキルアルコキシシラ環状化合物及びそれを用いた膜の堆積方法 | 2018年12月20日 | |
| 特開 2018-195833 | 有機アミノジシラン前駆体、及びそれを含む膜の堆積方法 | 2018年12月 6日 | |
| 特表 2018-534772 | コンフォーマルな金属又はメタロイド窒化ケイ素膜の堆積方法 | 2018年11月22日 | |
| 特開 2018-164091 | クリーニング用組成物 | 2018年10月18日 | |
| 特開 2018-154615 | ケイ素含有膜の堆積のための有機アミノ官能化直鎖状及び環状オリゴシロキサン | 2018年10月 4日 | |
| 特表 2018-528615 | コンフォーマルな金属又はメタロイド窒化ケイ素膜を堆積するための方法及びその結果として得られる膜 | 2018年 9月27日 | |
| 特開 2018-150312 | 有機アミノシラン前駆体およびこれを含む膜の堆積方法 | 2018年 9月27日 | |
| 特開 2018-150520 | 元素状ケイ素を含む膜の化学機械平坦化 | 2018年 9月27日 | |
| 特表 2018-524808 | ハライドシラン化合物及び組成物並びにそれを使用してケイ素含有膜を堆積するためのプロセス | 2018年 8月30日 | |
| 特表 2018-523753 | 窒化ケイ素膜を堆積するための組成物及び方法 | 2018年 8月23日 | |
| 特表 2018-523851 | フォトリソグラフィで使用されるフォトレジスト洗浄組成物及びそれを用いて基材を処理する方法 | 2018年 8月23日 | |
| 特開 2018-133590 | 3Dデバイスを製造するための方法及び前駆体 | 2018年 8月23日 | |
| 特開 2018-121056 | タングステン及びGST膜のためのエッチング溶液 | 2018年 8月 2日 | |
| 特表 2018-517274 | 抵抗ランダムアクセスメモリとして使用するための有機ケイ酸ガラス膜の堆積プロセス | 2018年 6月28日 |
29 件中 1-15 件を表示
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2018-207108 2018-201037 2018-195833 2018-534772 2018-164091 2018-154615 2018-528615 2018-150312 2018-150520 2018-524808 2018-523753 2018-523851 2018-133590 2018-121056 2018-517274
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