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バーサム マテリアルズ ユーエス,リミティド ライアビリティ カンパニー

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  2018年 出願公開件数ランキング    第928位 29件 上昇2017年:第2121位 11件)

  2018年 特許取得件数ランキング    第899位 23件 上昇2017年:第2056位 8件)

(ランキング更新日:2025年3月3日)筆頭出願人である出願のみカウントしています

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公報番号発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)公報発行日備考
特開 2018-207108 半導体デバイスの製造中に窒化ケイ素を選択的に除去するためのエッチング溶液 2018年12月27日
特開 2018-201037 アルキルアルコキシシラ環状化合物及びそれを用いた膜の堆積方法 2018年12月20日
特開 2018-195833 有機アミノジシラン前駆体、及びそれを含む膜の堆積方法 2018年12月 6日
特表 2018-534772 コンフォーマルな金属又はメタロイド窒化ケイ素膜の堆積方法 2018年11月22日
特開 2018-164091 クリーニング用組成物 2018年10月18日
特開 2018-154615 ケイ素含有膜の堆積のための有機アミノ官能化直鎖状及び環状オリゴシロキサン 2018年10月 4日
特表 2018-528615 コンフォーマルな金属又はメタロイド窒化ケイ素膜を堆積するための方法及びその結果として得られる膜 2018年 9月27日
特開 2018-150312 有機アミノシラン前駆体およびこれを含む膜の堆積方法 2018年 9月27日
特開 2018-150520 元素状ケイ素を含む膜の化学機械平坦化 2018年 9月27日
特表 2018-524808 ハライドシラン化合物及び組成物並びにそれを使用してケイ素含有膜を堆積するためのプロセス 2018年 8月30日
特表 2018-523753 窒化ケイ素膜を堆積するための組成物及び方法 2018年 8月23日
特表 2018-523851 フォトリソグラフィで使用されるフォトレジスト洗浄組成物及びそれを用いて基材を処理する方法 2018年 8月23日
特開 2018-133590 3Dデバイスを製造するための方法及び前駆体 2018年 8月23日
特開 2018-121056 タングステン及びGST膜のためのエッチング溶液 2018年 8月 2日
特表 2018-517274 抵抗ランダムアクセスメモリとして使用するための有機ケイ酸ガラス膜の堆積プロセス 2018年 6月28日

29 件中 1-15 件を表示

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2018-207108 2018-201037 2018-195833 2018-534772 2018-164091 2018-154615 2018-528615 2018-150312 2018-150520 2018-524808 2018-523753 2018-523851 2018-133590 2018-121056 2018-517274

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