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■ 2024年 出願公開件数ランキング 第830位 30件
(2023年:第951位 28件)
■ 2024年 特許取得件数ランキング 第1123位 19件
(2023年:第1428位 14件)
(ランキング更新日:2025年2月7日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特開 2024-178438 | 熱堆積ケイ素含有膜のための組成物およびそれを用いる方法 | 2024年12月24日 | |
特表 2024-546043 | 多層窒化ケイ素膜 | 2024年12月17日 | |
特表 2024-545850 | バックエンド用途のためのパッド・イン・ア・ボトル及びシングルプラテン化学機械的平坦化 | 2024年12月13日 | |
特表 2024-544897 | 費用効果の高い非多孔質固体研磨パッドを用いたパッドインボトル化学機械的平坦化研磨 | 2024年12月 5日 | |
特表 2024-545240 | 基板からフォトレジスト及びエッチング残渣を除去するための銅腐食防止剤を含む組成物並びにその使用 | 2024年12月 5日 | |
特開 2024-167401 | 炭素ドープされた酸化ケイ素の堆積 | 2024年12月 3日 | |
特表 2024-544194 | タングステン化学機械研磨スラリー | 2024年11月28日 | |
特表 2024-544195 | 酸化ケイ素及び窒化ケイ素のための化学機械平坦化研磨組成物 | 2024年11月28日 | |
特表 2024-543401 | MoO2Cl2及びMoO2Br2を利用したALD堆積 | 2024年11月21日 | |
特表 2024-541843 | アルコキシシラン及びそれから製作される高密度有機シリカ膜 | 2024年11月13日 | |
特開 2024-159770 | 高成長速度ケイ素含有膜の前駆体としての官能化シクロシラザン | 2024年11月 8日 | |
特表 2024-538550 | ポストドライエッチングフォトレジストおよび金属含有残渣の除去配合物 | 2024年10月23日 | |
特表 2024-538203 | シラノール及びシランジオール | 2024年10月18日 | |
特表 2024-537087 | 化学機械的平坦化スラリー用の添加剤としてのトリアゾール及び/又はトリアゾリウム系ポリマー並びにコポリマー | 2024年10月10日 | |
特表 2024-536365 | シャロートレンチアイソレーションのための化学機械平坦化研磨 | 2024年10月 4日 |
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2024-178438 2024-546043 2024-545850 2024-544897 2024-545240 2024-167401 2024-544194 2024-544195 2024-543401 2024-541843 2024-159770 2024-538550 2024-538203 2024-537087 2024-536365
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2月10日(月) -
2月12日(水) -
2月13日(木) - 岐阜 大垣市
2月13日(木) -
2月13日(木) -
2月13日(木) - 神奈川 綾瀬市
2月13日(木) -
2月13日(木) -
2月14日(金) - 東京 大田
<エンジニア(技術者)および研究開発担当(R&D部門)向け> 基礎から学ぶ/自分で行うIPランドスケープ®の活用・実践 <東京会場受講(対面)/Zoomオンライン受講 選択可> <見逃し視聴選択可>
2月14日(金) - 東京 千代田区
2月10日(月) -
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