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バーサム マテリアルズ ユーエス,リミティド ライアビリティ カンパニー

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  2024年 出願公開件数ランキング    第830位 30件 上昇2023年:第951位 28件)

  2024年 特許取得件数ランキング    第1123位 19件 上昇2023年:第1428位 14件)

(ランキング更新日:2025年3月11日)筆頭出願人である出願のみカウントしています

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公報番号発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)公報発行日備考
特開 2024-178438 熱堆積ケイ素含有膜のための組成物およびそれを用いる方法 2024年12月24日
特表 2024-546043 多層窒化ケイ素膜 2024年12月17日
特表 2024-545850 バックエンド用途のためのパッド・イン・ア・ボトル及びシングルプラテン化学機械的平坦化 2024年12月13日
特表 2024-544897 費用効果の高い非多孔質固体研磨パッドを用いたパッドインボトル化学機械的平坦化研磨 2024年12月 5日
特表 2024-545240 基板からフォトレジスト及びエッチング残渣を除去するための銅腐食防止剤を含む組成物並びにその使用 2024年12月 5日
特開 2024-167401 炭素ドープされた酸化ケイ素の堆積 2024年12月 3日
特表 2024-544194 タングステン化学機械研磨スラリー 2024年11月28日
特表 2024-544195 酸化ケイ素及び窒化ケイ素のための化学機械平坦化研磨組成物 2024年11月28日
特表 2024-543401 MoO2Cl2及びMoO2Br2を利用したALD堆積 2024年11月21日
特表 2024-541843 アルコキシシラン及びそれから製作される高密度有機シリカ膜 2024年11月13日
特開 2024-159770 高成長速度ケイ素含有膜の前駆体としての官能化シクロシラザン 2024年11月 8日
特表 2024-538550 ポストドライエッチングフォトレジストおよび金属含有残渣の除去配合物 2024年10月23日
特表 2024-538203 シラノール及びシランジオール 2024年10月18日
特表 2024-537087 化学機械的平坦化スラリー用の添加剤としてのトリアゾール及び/又はトリアゾリウム系ポリマー並びにコポリマー 2024年10月10日
特表 2024-536365 シャロートレンチアイソレーションのための化学機械平坦化研磨 2024年10月 4日

30 件中 1-15 件を表示

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2024-178438 2024-546043 2024-545850 2024-544897 2024-545240 2024-167401 2024-544194 2024-544195 2024-543401 2024-541843 2024-159770 2024-538550 2024-538203 2024-537087 2024-536365

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