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三菱瓦斯化学株式会社

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三菱瓦斯化学株式会社の商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特許 7263826	硫黄系有機材料、及び該硫黄系有機材料により表面修飾を施した無機材料	2023年 4月25日
特許 7259852	ポリイミド樹脂組成物	2023年 4月18日
特許 7258279	リソグラフィー用膜形成材料、リソグラフィー用膜形成用組成物、リソグラフィー用下層膜及びパターン形成方法	2023年 4月17日
特許 7256967	樹脂組成物、積層体、樹脂組成物層付き半導体ウェハ、樹脂組成物層付き半導体搭載用基板、及び半導体装置	2023年 4月13日
特許 7257596	フィルム、および、多層フィルム	2023年 4月13日
特許 7256482	リソグラフィー用膜形成材料、リソグラフィー用膜形成用組成物、リソグラフィー用下層膜及びパターン形成方法	2023年 4月12日
特許 7255485	ポリカーボネート樹脂、その製造方法、及び、光学レンズ	2023年 4月11日
特許 7255488	ポリイミド、ポリイミドワニス、及びポリイミドフィルム	2023年 4月11日
特許 7255489	ポリイミド樹脂、ポリイミドワニス及びポリイミドフィルム	2023年 4月11日
特許 7255491	２，５－ビス（アミノメチル）テトラヒドロフランの製造方法	2023年 4月11日
特許 7255595	カルボン酸エステル化合物、その製造方法、組成物、及び、香料組成物	2023年 4月11日
特許 7255656	光学用ポリカーボネート樹脂組成物及びその製造方法並びにそれを含むメガネレンズ及びカメラレンズ	2023年 4月11日
特許 7255765	樹脂組成物、硬化物、プリプレグ、金属箔張積層板、樹脂シート、および、プリント配線板	2023年 4月11日
特許 7253151	樹脂組成物、積層体、樹脂組成物層付き半導体ウェハ、樹脂組成物層付き半導体搭載用基板、及び半導体装置	2023年 4月 6日
特許 7252516	膜形成材料、リソグラフィー用膜形成用組成物、光学部品形成用材料、レジスト組成物、レジストパターン形成方法、レジスト用永久膜、感放射線性組成物、アモルファス膜の製造方法、リソグラフィー用下層膜形成材料、リソグラフィー用下層膜形成用組成物、リソグラフィー用下層膜の製造方法及び回路パターン形成方法	2023年 4月 5日

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7263826 7259852 7258279 7256967 7257596 7256482 7255485 7255488 7255489 7255491 7255595 7255656 7255765 7253151 7252516

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