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アイクストロン、エスイー
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■ 2014年 出願公開件数ランキング 第2742位 7件
（
2013年：第2668位 8件）
■ 2014年 特許取得件数ランキング 第3032位 6件
（2013年：第2688位 7件）
（ランキング更新日：2025年4月4日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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アイクストロン、エスイーの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 5619164 | ＣＶＤ方法およびＣＶＤ反応炉 | 2014年11月 5日 | |
| 特許 5613680 | 円筒状のガス入口部品を有するＭＯＣＶＤ反応装置 | 2014年10月29日 | |
| 特許 5536072 | 堆積装置、基板支持体およびシャドーマスク | 2014年 7月 2日 | |
| 特許 5492196 | 低圧ガス相の中で薄膜ポリマーを堆積させるための堆積方法 | 2014年 5月14日 | |
| 特許 5444214 | ＣＶＤ反応装置における基板の表面温度の温度制御のための装置 | 2014年 3月19日 | |
| 特許 5380308 | 改善された処理能力のための新規なプラズマシステムおよびプラズマ処理方法 | 2014年 1月 8日 |
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5619164 5613680 5536072 5492196 5444214 5380308
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