ホーム > 特許ランキング > アイクストロン、エスイー > 2024年 > 特許一覧
※ ログインすれば出願人(アイクストロン、エスイー)をリストに登録できます。ログインについて
■ 2024年 出願公開件数ランキング 第3594位 5件
(2023年:第2149位 10件)
■ 2024年 特許取得件数ランキング 第1722位 11件
(2023年:第1732位 11件)
(ランキング更新日:2025年4月4日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
2011年 2012年 2013年 2014年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2025年
公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特許 7587581 | CVDリアクタ用のガス導入装置 | 2024年11月20日 | |
特許 7579323 | CVDリアクタ用のガス導入部材 | 2024年11月 7日 | |
特許 7547376 | ガリウム及びインジウムを含む半導体層システムの堆積方法 | 2024年 9月 9日 | |
特許 7539401 | CVDリアクタのサセプタ構造 | 2024年 8月23日 | |
特許 7475357 | サセプタ温度に局所的に影響を及ぼす手段を有するCVDリアクタ | 2024年 4月26日 | |
特許 7461351 | CVDリアクタ用のガス入口装置 | 2024年 4月 3日 | |
特許 7460621 | CVDリアクタの構成要素の製造方法 | 2024年 4月 2日 | |
特許 7458400 | CVDリアクタのサセプタ | 2024年 3月29日 | |
特許 7441791 | 個別識別子を付与されたCVD装置部品及びその情報伝達方法 | 2024年 3月 1日 | |
特許 7441794 | 核生成層の堆積方法 | 2024年 3月 1日 | |
特許 7439056 | CVDリアクタの設定又は稼動方法 | 2024年 2月27日 |
11 件中 1-11 件を表示
※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。
このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー
7587581 7579323 7547376 7539401 7475357 7461351 7460621 7458400 7441791 7441794 7439056
※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。アイクストロン、エスイーの知財の動向チェックに便利です。
4月4日(金) -
4月4日(金) -
4月9日(水) -
4月9日(水) -
4月10日(木) - 東京 港区赤坂3-9-1 紀陽ビル4階
【セミナー|知財業界で働くなら知っておくべき】知財部長と代表弁理士が伝える、知財部と事務所の違いとは〈4/10(木)19時~〉
4月11日(金) -
愛知県名古屋市中区栄3-2-3 名古屋日興證券ビル4階 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国意匠 外国商標 訴訟 鑑定 コンサルティング
愛知県名古屋市中区丸の内二丁目8番11号 セブン丸の内ビル6階 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国意匠 外国商標 訴訟 鑑定 コンサルティング
〒170-0013 東京都豊島区東池袋3丁目9-10 池袋FNビル4階 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国意匠 外国商標 訴訟 鑑定 コンサルティング