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アイクストロン、エスイー
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■ 2017年 出願公開件数ランキング 第1706位 15件
（
2016年：第2477位 8件）
■ 2017年 特許取得件数ランキング 第4057位 3件
（
2016年：第3496位 4件）
（ランキング更新日：2025年1月17日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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アイクストロン、エスイーの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 6200487 | 原子層堆積法の使用によるＴｉＳｉＮ薄層の形成方法 | 2017年 9月20日 | |
| 特許 6176962 | ＣＶＤ反応室のプロセスチャンバの壁の洗浄方法 | 2017年 8月 9日 | |
| 特許 6085595 | ＯＬＥＤの堆積方法および装置 | 2017年 2月22日 |
3 件中 1-3 件を表示
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6200487 6176962 6085595
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