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アイクストロン、エスイー
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■ 2013年 出願公開件数ランキング 第2668位 8件
（
2012年：第4129位 4件）
■ 2013年 特許取得件数ランキング 第2688位 7件
（2012年：第9669位 1件）
（ランキング更新日：2025年12月5日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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アイクストロン、エスイーの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 5358427 | プロセスチャンバ内の基板表面温度制御装置及び方法 | 2013年12月 4日 | |
| 特許 5248604 | サセプタの上に配置された基板をコーティングするための装置 | 2013年 7月31日 | |
| 特許 5211154 | 複数の拡散溶接枠を具備するガス分配器及びその製造方法 | 2013年 6月12日 | |
| 特許 5161868 | 降下可能なプロセスチャンバ天井部を備えたＣＶＤ反応炉 | 2013年 3月13日 | |
| 特許 5161786 | 滑走軸支されたサセプタホルダを備えるＣＶＤ−リアクタ | 2013年 3月13日 | |
| 特許 5148501 | ガス入口部品を有するＣＶＤ反応装置 | 2013年 2月20日 | |
| 特許 5137843 | ＣＶＤ反応装置における多層薄膜堆積方法及びＣＶＤ反応装置のガス入口部品 | 2013年 2月 6日 |
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5358427 5248604 5211154 5161868 5161786 5148501 5137843
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