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アイクストロン、エスイー

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  2013年 出願公開件数ランキング    第2668位 8件 上昇2012年:第4129位 4件)

  2013年 特許取得件数ランキング    第2688位 7件 上昇2012年:第9669位 1件)

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公報番号発明の名称公報発行日備考
特許 5358427 プロセスチャンバ内の基板表面温度制御装置及び方法 2013年12月 4日
特許 5248604 サセプタの上に配置された基板をコーティングするための装置 2013年 7月31日
特許 5211154 複数の拡散溶接枠を具備するガス分配器及びその製造方法 2013年 6月12日
特許 5161868 降下可能なプロセスチャンバ天井部を備えたCVD反応炉 2013年 3月13日
特許 5161786 滑走軸支されたサセプタホルダを備えるCVD−リアクタ 2013年 3月13日
特許 5148501 ガス入口部品を有するCVD反応装置 2013年 2月20日
特許 5137843 CVD反応装置における多層薄膜堆積方法及びCVD反応装置のガス入口部品 2013年 2月 6日

7 件中 1-7 件を表示

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5358427 5248604 5211154 5161868 5161786 5148501 5137843

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