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アイクストロン、エスイー
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（
2018年：第7186位 2件）
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（2018年：第5361位 2件）
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アイクストロン、エスイーの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 6606547 | 複数の液体または固体の原材料からＣＶＤまたはＰＶＤ装置のために蒸気を生成する蒸気発生装置および蒸気発生方法 | 2019年11月13日 | |
| 特許 6602378 | 大面積基板コーティング用ＣＶＤ又はＰＶＤ反応炉 | 2019年11月 6日 | |
| 特許 6595493 | 振動体センサによって蒸気の濃度を決定するための装置および方法 | 2019年10月23日 | |
| 特許 6576961 | ＣＶＤ反応炉におけるコーティングされた平坦部品 | 2019年 9月18日 | |
| 特許 6574593 | ＣＶＤリアクタにおける排ガス洗浄装置および方法 | 2019年 9月11日 | |
| 特許 6566628 | 炭素からなるナノ構造の製造装置および方法 | 2019年 8月28日 | |
| 特許 6524104 | 重量の削減されたガス排出プレートを備えたＣＶＤ反応炉のガス注入素子 | 2019年 6月 5日 | |
| 特許 6510552 | ２つの互いに反対向きの主面上に各基板を搭載する基板キャリア | 2019年 5月 8日 | |
| 特許 6463339 | 後続の多段洗浄ステップを伴うＭＯＣＶＤ層成長方法 | 2019年 1月30日 | |
| 特許 6457718 | ＣＶＤリアクタ用ガス分配器 | 2019年 1月23日 | |
| 特許 6449784 | 粒子分離器を有するＣＶＤシステム | 2019年 1月16日 | |
| 特許 6448288 | プロセスチャンバ内におけるサセプタの回転位置の決定装置および方法 | 2019年 1月 9日 |
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6606547 6602378 6595493 6576961 6574593 6566628 6524104 6510552 6463339 6457718 6449784 6448288
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