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アイクストロン、エスイー
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■ 2020年 出願公開件数ランキング 第3088位 6件
（
2019年：第3170位 6件）
■ 2020年 特許取得件数ランキング 第1550位 11件
（
2019年：第1440位 12件）
（ランキング更新日：2026年3月13日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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アイクストロン、エスイーの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 6796380 | ＩＩＩ−Ｖ族半導体層の堆積方法及び堆積装置 | 2020年12月 9日 | |
| 特許 6796491 | ＣＶＤ又はＰＶＤコーティング装置にプロセスガス混合物を供給するための装置及び方法 | 2020年12月 9日 | |
| 特許 6777381 | ＣＶＤ装置またはＰＶＤ装置用固体または液体出発物質からの蒸気発生装置 | 2020年10月28日 | |
| 特許 6752199 | ＣＶＤまたはＰＶＤ装置のための蒸気発生装置および蒸気発生方法 | 2020年 9月 9日 | |
| 特許 6754365 | 大面積基板コーティング装置 | 2020年 9月 9日 | |
| 特許 6712592 | 基板上に層を堆積するための装置 | 2020年 6月24日 | |
| 特許 6688290 | 複数箇所にて供給される希釈ガス流をもつ温度制御されたガス供給管 | 2020年 4月28日 | |
| 特許 6678590 | ナノチューブを堆積するための装置 | 2020年 4月 8日 | |
| 特許 6667517 | シード構造からカーボン構造を分離する方法 | 2020年 3月18日 | |
| 特許 6654193 | 大面積基板のコーティング用装置 | 2020年 2月26日 | |
| 特許 6647301 | 大面積基板コーティング用ＣＶＤ又はＰＶＤ反応炉 | 2020年 2月14日 |
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6796380 6796491 6777381 6752199 6754365 6712592 6688290 6678590 6667517 6654193 6647301
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