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株式会社日立ハイテクノロジーズ

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  2011年 出願公開件数ランキング    第52位 689件 上昇2010年:第70位 624件)

  2011年 特許取得件数ランキング    第98位 350件 下降2010年:第95位 307件)

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公報番号発明の名称公報発行日備考
特開 2011-209353 FPDモジュールの組立装置 2011年10月20日
特開 2011-211135 プラズマ処理方法 2011年10月20日
特開 2011-200141 反応基板および分析装置 2011年10月13日
特開 2011-204309 微細パターン転写用スタンパ 2011年10月13日
特開 2011-204709 プラズマ処理装置 2011年10月13日
特開 2011-204346 洗浄方法及びその装置 2011年10月13日
特開 2011-204570 複合荷電粒子線装置 2011年10月13日
特開 2011-203080 画像処理装置、画像処理方法、画像処理プログラム 2011年10月13日
特開 2011-196731 走査荷電粒子顕微鏡を用いた画像生成方法及び装置、並びに試料の観察方法及び観察装置 2011年10月 6日
特開 2011-195872 マスク洗浄装置及び洗浄方法並びに有機EL製造装置 2011年10月 6日
特開 2011-197012 光学装置 2011年10月 6日
特開 2011-197461 FPDモジュールの組立装置 2011年10月 6日
特開 2011-199056 FPDモジュールの組立装置 2011年10月 6日
特開 2011-192922 真空処理装置 2011年 9月29日
特開 2011-193703 リニアモータ対、移動ステージ、及び電子顕微鏡 2011年 9月29日

689 件中 136-150 件を表示

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2011-209353 2011-211135 2011-200141 2011-204309 2011-204709 2011-204346 2011-204570 2011-203080 2011-196731 2011-195872 2011-197012 2011-197461 2011-199056 2011-192922 2011-193703

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