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株式会社日立ハイテクノロジーズ

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　■　2011年出願公開件数ランキング　　　第52位　689件（2010年：第70位　624件）

　■　2011年特許取得件数ランキング　　　第98位　350件（2010年：第95位　307件）

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株式会社日立ハイテクノロジーズの商標一覧

公報番号	発明の名称	公報発行日
特開 2011-180145	欠陥検査装置	2011年 9月15日
特開 2011-180153	荷電粒子ビーム装置	2011年 9月15日
特開 2011-180159	パターン形状評価装置	2011年 9月15日
特開 2011-180116	トロリ線測定用投光装置及びトロリ線測定装置	2011年 9月15日
特開 2011-179962	高速液体クロマトグラフ装置及び高速液体クロマトグラフ装置の液体送液方法	2011年 9月15日
特開 2011-179823	欠陥検査装置および欠陥検査方法	2011年 9月15日
特開 2011-179825	自動分析装置	2011年 9月15日
特開 2011-180297	露光装置、露光方法、及び表示用パネル基板の製造方法	2011年 9月15日
特開 2011-179819	パターン測定方法及びコンピュータプログラム	2011年 9月15日
特開 2011-181119	検出回路および検査装置	2011年 9月15日
特開 2011-181575	エッチング装置、制御シミュレータ、及び半導体装置製造方法	2011年 9月15日
特開 2011-181750	真空処理装置及びプログラム	2011年 9月15日
特開 2011-181751	真空処理装置及びプログラム	2011年 9月15日
特開 2011-180162	異方性導電材塗布装置，異方性導電材塗布方法，表示パネルモジュール組立装置、及び表示パネルモジュール組立方法	2011年 9月15日
特開 2011-181271	ＥＳＤ有機ＥＬ装置及び方法	2011年 9月15日

689 件中 181-195 件を表示

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2011-180145 2011-180153 2011-180159 2011-180116 2011-179962 2011-179823 2011-179825 2011-180297 2011-179819 2011-181119 2011-181575 2011-181750 2011-181751 2011-180162 2011-181271

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