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株式会社日立ハイテクノロジーズ

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　■　2011年特許取得件数ランキング　　　第98位　350件（2010年：第95位　307件）

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株式会社日立ハイテクノロジーズの商標一覧

公報番号	発明の名称	公報発行日
特開 2011-176147	プラズマ処理装置	2011年 9月 8日
特開 2011-176146	プラズマ処理装置	2011年 9月 8日
特開 2011-168363	基板搬送装置及び基板搬送方法	2011年 9月 1日
特開 2011-169718	分光光度計、及びその性能測定方法	2011年 9月 1日
特開 2011-168805	蒸発源及びこれを用いた真空蒸着装置	2011年 9月 1日
特開 2011-171088	電界放出電子銃及びその制御方法	2011年 9月 1日
特開 2011-170144	フォトマスク、プロキシミティ露光装置、及びプロキシミティ露光装置のアライメントマーク検出方法	2011年 9月 1日
特開 2011-166167	プラズマエッチング装置およびプラズマエッチング方法	2011年 8月25日
特開 2011-165264	両面インプリント装置の被転写体位置決め方法および両面インプリント装置	2011年 8月25日
特開 2011-161340	スピンコート方法及びスピンコーター	2011年 8月25日
特開 2011-164599	マイクロミラーデバイスの選別方法、マイクロミラーデバイス選別装置およびマスクレス露光装置	2011年 8月25日
特開 2011-164308	ＦＰＤモジュールの組立装置	2011年 8月25日
特開 2011-163855	欠陥検査方法及びその装置	2011年 8月25日
特開 2011-161492	レーザ加工状態検査方法及び装置レーザ加工方法及び装置並びにソーラパネル製造方法	2011年 8月25日
特開 2011-165669	ミラー電子式試料検査装置	2011年 8月25日

689 件中 211-225 件を表示

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2011-176147 2011-176146 2011-168363 2011-169718 2011-168805 2011-171088 2011-170144 2011-166167 2011-165264 2011-161340 2011-164599 2011-164308 2011-163855 2011-161492 2011-165669

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