特許ランキング - 出願人詳細情報 -

株式会社日立ハイテクノロジーズ

※ ログインすれば出願人(株式会社日立ハイテクノロジーズ)をリストに登録できます。ログインについて

　■　2013年出願公開件数ランキング　　　第59位　716件（2012年：第54位　709件）

　■　2013年特許取得件数ランキング　　　第51位　717件（2012年：第71位　547件）

（ランキング更新日：2024年12月12日）筆頭出願人である出願のみカウントしています

2011年 2012年 2014年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年

株式会社日立ハイテクノロジーズの商標一覧

公報番号	発明の名称	公報発行日
特開 2013-219257	処理室割当設定装置及び処理室割当設定プログラム	2013年10月24日
特開 2013-218198	基板貼り合わせ装置	2013年10月24日
特開 2013-219428	スイッチ回路、質量分析装置及びスイッチ回路の制御方法	2013年10月24日
特開 2013-219401	プラズマ処理方法のＲｕｎ−ｔｏ−Ｒｕｎ制御方法	2013年10月24日
特開 2013-213831	自動分析装置	2013年10月17日
特開 2013-212086	フローセル、これを用いた分析装置、及び分析方法	2013年10月17日
特開 2013-214583	プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法	2013年10月17日
特開 2013-213840	電極，電気化学セルおよび分析装置並びにそれらの製造方法	2013年10月17日
特開 2013-214584	プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法	2013年10月17日
特開 2013-213841	電解質分析装置の管理システム	2013年10月17日
特開 2013-213781	位置ずれ計測装置及び位置ずれ計測方法ならびに位置ずれ計測装置を用いた走査電子顕微鏡	2013年10月17日
特開 2013-214425	イオンビーム装置および不純物ガスの除去方法	2013年10月17日
特開 2013-213747	イオンビーム装置、試料観察方法、および試料作製装置	2013年10月17日
特開 2013-214521	イオンビーム加工装置及び加工方法	2013年10月17日
特開 2013-214467	電子顕微鏡、電子顕微鏡の観察条件の設定方法、および電子顕微鏡による観察方法	2013年10月17日

716 件中 121-135 件を表示

... 9

※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。

このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー

2013-219257 2013-218198 2013-219428 2013-219401 2013-213831 2013-212086 2013-214583 2013-213840 2013-214584 2013-213841 2013-213781 2013-214425 2013-213747 2013-214521 2013-214467

※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。株式会社日立ハイテクノロジーズの知財の動向チェックに便利です。

ログインについて

ランキング一覧に戻る

特許ランキング

2024年特許出願件数	2024年特許取得件数
2023年特許出願件数	2023年特許取得件数
2022年特許出願件数	2022年特許取得件数
2021年特許出願件数	2021年特許取得件数
2020年特許出願件数	2020年特許取得件数
2019年特許出願件数	2019年特許取得件数
2018年特許出願件数	2018年特許取得件数
2017年特許出願件数	2017年特許取得件数
2016年特許出願件数	2016年特許取得件数
2015年特許出願件数	2015年特許取得件数
2014年特許出願件数	2014年特許取得件数
2012年特許出願件数	2012年特許取得件数
2011年特許出願件数	2011年特許取得件数