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東京応化工業株式会社

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東京応化工業株式会社の商標一覧

公報番号	発明の名称	公報発行日
特許 4846332	化合物およびその製造方法、低分子化合物、ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法	2011年12月28日
特許 4846294	多価フェノール化合物、化合物、ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法	2011年12月28日
特許 4842029	精密微細空間の形成方法、および精密微細空間を有する部材の製造方法	2011年12月21日
特許 4841823	高分子化合物、ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法	2011年12月21日
特許 4841280	スリットノズル洗浄方法	2011年12月21日
特許 4837451	精密微細空間の形成方法、および精密微細空間を有する部材の製造方法	2011年12月14日
特許 4837323	レジスト組成物、レジストパターン形成方法および化合物	2011年12月14日
特許 4833040	感光性樹脂組成物及び液晶パネル用スペーサ	2011年12月 7日
特許 4828457	レジストパターン微細化用被覆形成剤及びそれを用いた微細レジストパターン形成方法	2011年11月30日
特許 4828201	化学増幅型ホトレジスト組成物、レジスト層積層体およびレジストパタ−ン形成方法	2011年11月30日
特許 4825695	液状溶剤当接ユニット	2011年11月30日
特許 4828204	ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法、並びに高分子化合物	2011年11月30日
特許 4823578	多価フェノール化合物、化合物、ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法	2011年11月24日
特許 4823562	レジストパターン形成方法	2011年11月24日
特許 4823640	新規な酸発生剤、化学増幅型ホトレジスト組成物、レジスト層積層体およびレジストパターン形成方法	2011年11月24日

139 件中 1-15 件を表示

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4846332 4846294 4842029 4841823 4841280 4837451 4837323 4833040 4828457 4828201 4825695 4828204 4823578 4823562 4823640

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