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東京応化工業株式会社

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　■　2011年出願公開件数ランキング　　　第366位　107件（2010年：第258位　187件）

　■　2011年特許取得件数ランキング　　　第252位　139件（2010年：第315位　98件）

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東京応化工業株式会社の商標一覧

公報番号	発明の名称	公報発行日	備考
特開 2011-258841	基板の加工方法	2011年12月22日
特開 2011-257499	レジストパターン形成方法及びパターン微細化処理剤	2011年12月22日
特開 2011-257635	絶縁膜形成用感光性組成物	2011年12月22日
特開 2011-254055	被処理体の処理方法	2011年12月15日
特開 2011-248147	パターン形成方法	2011年12月 8日
特開 2011-245449	塗布装置	2011年12月 8日
特開 2011-243706	拡散剤組成物、不純物拡散層の形成方法、および太陽電池	2011年12月 1日
特開 2011-238589	櫛型電極の製造方法	2011年11月24日	共同出願
特開 2011-230084	サポートプレートの洗浄方法	2011年11月17日
特開 2011-233680	剥離装置及び剥離方法	2011年11月17日
特開 2011-233679	剥離方法及び剥離装置	2011年11月17日
特開 2011-233678	剥離方法及び剥離装置	2011年11月17日
特開 2011-227246	ネガ型感光性樹脂組成物、感光性ドライフィルム、及び受光装置	2011年11月10日
特開 2011-225885	高分子化合物、該高分子化合物を含有するフォトレジスト組成物、およびレジストパターン形成方法	2011年11月10日
特開 2011-225486	レジスト組成物、レジストパターン形成方法、新規な化合物及び酸発生剤	2011年11月10日

107 件中 1-15 件を表示

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2011-258841 2011-257499 2011-257635 2011-254055 2011-248147 2011-245449 2011-243706 2011-238589 2011-230084 2011-233680 2011-233679 2011-233678 2011-227246 2011-225885 2011-225486

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