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東京応化工業株式会社

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  2012年 出願公開件数ランキング    第333位 124件 上昇2011年:第366位 107件)

  2012年 特許取得件数ランキング    第259位 143件 下降2011年:第252位 139件)

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公報番号発明の名称公報発行日備考
特許 4864698 リソグラフィー用リンス液 2012年 2月 1日
特許 4863782 処理液供給装置 2012年 1月25日
特許 4859660 基板処置装置 2012年 1月25日
特許 4857178 ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 2012年 1月18日
特許 4855006 不飽和基含有化合物の製造方法 2012年 1月18日
特許 4855312 感光性組成物 2012年 1月18日
特許 4855293 ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 2012年 1月18日
特許 4851359 感光性樹脂組成物およびこれを用いたパターン形成方法 2012年 1月11日

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4864698 4863782 4859660 4857178 4855006 4855312 4855293 4851359

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