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東京応化工業株式会社
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■ 2012年 出願公開件数ランキング 第333位 124件
（
2011年：第366位 107件）
■ 2012年 特許取得件数ランキング 第259位 143件
（
2011年：第252位 139件）
（ランキング更新日：2024年11月15日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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東京応化工業株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 4864698 | リソグラフィー用リンス液 | 2012年 2月 1日 | |
| 特許 4863782 | 処理液供給装置 | 2012年 1月25日 | |
| 特許 4859660 | 基板処置装置 | 2012年 1月25日 | |
| 特許 4857178 | ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 | 2012年 1月18日 | |
| 特許 4855006 | 不飽和基含有化合物の製造方法 | 2012年 1月18日 | |
| 特許 4855312 | 感光性組成物 | 2012年 1月18日 | |
| 特許 4855293 | ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 | 2012年 1月18日 | |
| 特許 4851359 | 感光性樹脂組成物およびこれを用いたパターン形成方法 | 2012年 1月11日 |
143 件中 136-143 件を表示
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4864698 4863782 4859660 4857178 4855006 4855312 4855293 4851359
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