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東京応化工業株式会社

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  2012年 出願公開件数ランキング    第333位 124件 上昇2011年:第366位 107件)

  2012年 特許取得件数ランキング    第259位 143件 下降2011年:第252位 139件)

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公報番号発明の名称公報発行日備考
特開 2012-255837 レジスト組成物、レジストパターン形成方法及び高分子化合物 2012年12月27日
特開 2012-255161 化合物、高分子化合物、ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 2012年12月27日
特開 2012-255170 含フッ素化合物 2012年12月27日
特開 2012-253343 基板処理装置及び基板処理方法 2012年12月20日
特開 2012-250229 塗布装置及び塗布方法 2012年12月20日
特開 2012-253215 塗布装置及び塗布方法 2012年12月20日
特開 2012-250230 加熱装置、塗布装置及び加熱方法 2012年12月20日
特開 2012-252077 レジスト組成物及びレジストパターン形成方法、並びに、高分子化合物及びその製造方法 2012年12月20日
特開 2012-252315 レジストパターン形成方法 2012年12月20日
特開 2012-247502 レジスト組成物、レジストパターン形成方法、新規な化合物、酸発生剤 2012年12月13日
特開 2012-242799 レジスト組成物、レジストパターン形成方法、新規な化合物、酸発生剤 2012年12月10日
特開 2012-242800 ポジ型レジスト組成物、レジストパターン形成方法 2012年12月10日
再表 2010-143510 接着剤組成物 2012年11月22日 共同出願
特開 2012-230236 レジスト組成物、レジストパターン形成方法 2012年11月22日
特開 2012-230174 レジスト組成物、レジストパターン形成方法 2012年11月22日

124 件中 1-15 件を表示

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2012-255837 2012-255161 2012-255170 2012-253343 2012-250229 2012-253215 2012-250230 2012-252077 2012-252315 2012-247502 2012-242799 2012-242800 2010-143510 2012-230236 2012-230174

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