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■ 2012年 出願公開件数ランキング 第333位 124件 (2011年:第366位 107件)
■ 2012年 特許取得件数ランキング 第259位 143件 (2011年:第252位 139件)
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
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特開 2012-255837 | レジスト組成物、レジストパターン形成方法及び高分子化合物 | 2012年12月27日 | |
特開 2012-255161 | 化合物、高分子化合物、ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 | 2012年12月27日 | |
特開 2012-255170 | 含フッ素化合物 | 2012年12月27日 | |
特開 2012-253343 | 基板処理装置及び基板処理方法 | 2012年12月20日 | |
特開 2012-250229 | 塗布装置及び塗布方法 | 2012年12月20日 | |
特開 2012-253215 | 塗布装置及び塗布方法 | 2012年12月20日 | |
特開 2012-250230 | 加熱装置、塗布装置及び加熱方法 | 2012年12月20日 | |
特開 2012-252077 | レジスト組成物及びレジストパターン形成方法、並びに、高分子化合物及びその製造方法 | 2012年12月20日 | |
特開 2012-252315 | レジストパターン形成方法 | 2012年12月20日 | |
特開 2012-247502 | レジスト組成物、レジストパターン形成方法、新規な化合物、酸発生剤 | 2012年12月13日 | |
特開 2012-242799 | レジスト組成物、レジストパターン形成方法、新規な化合物、酸発生剤 | 2012年12月10日 | |
特開 2012-242800 | ポジ型レジスト組成物、レジストパターン形成方法 | 2012年12月10日 | |
再表 2010-143510 | 接着剤組成物 | 2012年11月22日 | 共同出願 |
特開 2012-230236 | レジスト組成物、レジストパターン形成方法 | 2012年11月22日 | |
特開 2012-230174 | レジスト組成物、レジストパターン形成方法 | 2012年11月22日 |
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2012-255837 2012-255161 2012-255170 2012-253343 2012-250229 2012-253215 2012-250230 2012-252077 2012-252315 2012-247502 2012-242799 2012-242800 2010-143510 2012-230236 2012-230174
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