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■ 2012年 出願公開件数ランキング 第333位 124件
(2011年:第366位 107件)
■ 2012年 特許取得件数ランキング 第259位 143件
(2011年:第252位 139件)
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特開 2012-255837 | レジスト組成物、レジストパターン形成方法及び高分子化合物 | 2012年12月27日 | |
特開 2012-255161 | 化合物、高分子化合物、ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 | 2012年12月27日 | |
特開 2012-255170 | 含フッ素化合物 | 2012年12月27日 | |
特開 2012-253343 | 基板処理装置及び基板処理方法 | 2012年12月20日 | |
特開 2012-250229 | 塗布装置及び塗布方法 | 2012年12月20日 | |
特開 2012-253215 | 塗布装置及び塗布方法 | 2012年12月20日 | |
特開 2012-250230 | 加熱装置、塗布装置及び加熱方法 | 2012年12月20日 | |
特開 2012-252077 | レジスト組成物及びレジストパターン形成方法、並びに、高分子化合物及びその製造方法 | 2012年12月20日 | |
特開 2012-252315 | レジストパターン形成方法 | 2012年12月20日 | |
特開 2012-247502 | レジスト組成物、レジストパターン形成方法、新規な化合物、酸発生剤 | 2012年12月13日 | |
特開 2012-242799 | レジスト組成物、レジストパターン形成方法、新規な化合物、酸発生剤 | 2012年12月10日 | |
特開 2012-242800 | ポジ型レジスト組成物、レジストパターン形成方法 | 2012年12月10日 | |
再表 2010-143510 | 接着剤組成物 | 2012年11月22日 | 共同出願 |
特開 2012-230236 | レジスト組成物、レジストパターン形成方法 | 2012年11月22日 | |
特開 2012-230174 | レジスト組成物、レジストパターン形成方法 | 2012年11月22日 |
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2012-255837 2012-255161 2012-255170 2012-253343 2012-250229 2012-253215 2012-250230 2012-252077 2012-252315 2012-247502 2012-242799 2012-242800 2010-143510 2012-230236 2012-230174
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2月21日(金) - 東京 千代田区
2月21日(金) - 東京 大田
パテントマップを用いた知財戦略の策定方法 -自社が勝つパテントマップ作成と それを活用した開発戦略・知財戦略の実践方法- <東京会場受講(対面)/Zoomオンライン受講 選択可> <見逃し視聴選択可>
2月21日(金) -
2月22日(土) - 東京 板橋区
2月21日(金) - 東京 千代田区
2月25日(火) -
2月25日(火) -
2月26日(水) -
2月26日(水) -
2月26日(水) - 東京 港区
2月26日(水) -
2月26日(水) - 千葉 船橋市
2月27日(木) -
2月27日(木) -
2月27日(木) - 東京 港区
2月27日(木) -
2月27日(木) - 東京 千代田区
2月25日(火) -
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