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東京応化工業株式会社

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  2013年 出願公開件数ランキング    第230位 206件 上昇2012年:第333位 124件)

  2013年 特許取得件数ランキング    第194位 216件 上昇2012年:第259位 143件)

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公報番号発明の名称公報発行日備考
特許 5238354 レジストパターン形成方法 2013年 7月17日
特許 5237743 レジスト下層膜形成用組成物 2013年 7月17日
特許 5231072 被膜形成方法 2013年 7月10日 共同出願
特許 5231863 導電層を有する三次元構造物及び三次元金属構造物の製造方法 2013年 7月10日 共同出願
特許 5231785 リチウム二次電池用負極基材 2013年 7月10日 共同出願
特許 5232675 ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたレジストパターン形成方法、並びに高分子化合物 2013年 7月10日
特許 5232663 レジスト組成物、レジストパターン形成方法、高分子化合物及び化合物 2013年 7月10日
特許 5230400 樹脂の製造方法 2013年 7月10日
特許 5227701 基板処理システム 2013年 7月 3日
特許 5227846 ポジ型レジスト組成物、レジストパターン形成方法、高分子化合物 2013年 7月 3日
特許 5227656 ポジ型レジスト組成物、レジストパターン形成方法および高分子化合物 2013年 7月 3日
特許 5227818 被覆パターン形成方法、レジスト被覆膜形成用材料、レジスト組成物、パターン形成方法 2013年 7月 3日
特許 5227685 レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 2013年 7月 3日
特許 5225555 液浸露光用レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 2013年 7月 3日
特許 5227554 基板処理装置および基板処理方法 2013年 7月 3日

216 件中 136-150 件を表示

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5238354 5237743 5231072 5231863 5231785 5232675 5232663 5230400 5227701 5227846 5227656 5227818 5227685 5225555 5227554

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