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東京応化工業株式会社
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■ 2013年 出願公開件数ランキング 第230位 206件
（
2012年：第333位 124件）
■ 2013年 特許取得件数ランキング 第194位 216件
（2012年：第259位 143件）
（ランキング更新日：2025年2月18日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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東京応化工業株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 5227441 | 処理装置 | 2013年 7月 3日 | |
| 特許 5222390 | 流体用容器及びそれを用いた流体入り容器 | 2013年 6月26日 | |
| 特許 5222638 | レジストパターン形成方法 | 2013年 6月26日 | |
| 特許 5222111 | レジスト表面改質液及びこれを利用したレジストパターン形成方法 | 2013年 6月26日 | |
| 特許 5216413 | 導電層を有する三次元構造物及び三次元金属構造物の製造方法 | 2013年 6月19日 | 共同出願 |
| 特許 5216380 | 新規な化合物、酸発生剤、レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 | 2013年 6月19日 | |
| 特許 5216253 | レジストパターン形成方法 | 2013年 6月19日 | |
| 特許 5208387 | 塗布装置 | 2013年 6月12日 | 共同出願 |
| 特許 5210612 | 新規な化合物、酸発生剤、レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 | 2013年 6月12日 | |
| 特許 5210201 | 感光性樹脂組成物、ドライフィルム、及びパターン形成方法 | 2013年 6月12日 | |
| 特許 5209947 | 接着剤の処理方法 | 2013年 6月12日 | |
| 特許 5210610 | 液浸露光用レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 | 2013年 6月12日 | |
| 特許 5210060 | 剥離装置および剥離方法 | 2013年 6月12日 | |
| 特許 5205133 | 化合物、酸発生剤、レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 | 2013年 6月 5日 | |
| 特許 5205027 | 化合物の製造方法 | 2013年 6月 5日 |
216 件中 151-165 件を表示
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5227441 5222390 5222638 5222111 5216413 5216380 5216253 5208387 5210612 5210201 5209947 5210610 5210060 5205133 5205027
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