特許ランキング - 出願人詳細情報 -

東京応化工業株式会社

※ ログインすれば出願人(東京応化工業株式会社)をリストに登録できます。ログインについて

　■　2024年出願公開件数ランキング　　　第253位　138件（2023年：第318位　109件）

　■　2024年特許取得件数ランキング　　　第258位　123件（2023年：第281位　118件）

（ランキング更新日：2025年1月8日）筆頭出願人である出願のみカウントしています

2011年 2012年 2013年 2014年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2025年

東京応化工業株式会社の商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特許 7607450	硬化性組成物、及び接合構造体の製造方法	2024年12月27日
特許 7607573	分泌物産生細胞のスクリーニング方法、及び分泌物産生細胞のスクリーニングキット	2024年12月27日
特許 7606876	ルテニウム含有層を洗浄又はエッチングするために用いられる薬液、及びルテニウム配線の製造方法	2024年12月26日
特許 7603383	ポジ型感光性樹脂組成物、パターニングされたレジスト膜の形成方法、及びパターニングされたレジスト膜	2024年12月20日
特許 7603442	ネガ型感光性樹脂組成物及びパターン形成方法	2024年12月20日
特許 7603597	細胞スクリーニングデバイスおよび細胞スクリーニングキット	2024年12月20日
特許 7603763	化学増幅型ポジ型感光性組成物、感光性ドライフィルム、感光性ドライフィルムの製造方法、パターン化されたレジスト膜の製造方法及び酸拡散抑制剤	2024年12月20日
特許 7594374	ネガ型感光性樹脂組成物、パターン形成方法及び積層フィルム	2024年12月 4日
特許 7588465	レジスト組成物及びレジストパターン形成方法	2024年11月22日
特許 7588474	レジスト組成物及びレジストパターン形成方法	2024年11月22日
特許 7587352	感光性組成物、硬化物、硬化物の製造方法及び光重合性組成物	2024年11月20日
特許 7587418	半導体素子の製造方法、及び半導体素子の製造方法において用いられる薬液	2024年11月20日
特許 7584275	エッチング液、及び半導体素子の製造方法	2024年11月15日
特許 7583669	表面処理方法、基板表面の領域選択的製膜方法及び表面処理剤	2024年11月14日
特許 7576800	電波吸収体フィルム、及びその製造方法	2024年11月 1日

126 件中 1-15 件を表示

※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。

このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー

7607450 7607573 7606876 7603383 7603442 7603597 7603763 7594374 7588465 7588474 7587352 7587418 7584275 7583669 7576800

※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。東京応化工業株式会社の知財の動向チェックに便利です。

ログインについて

ランキング一覧に戻る

特許ランキング

2025年特許出願件数	2025年特許取得件数
2023年特許出願件数	2023年特許取得件数
2022年特許出願件数	2022年特許取得件数
2021年特許出願件数	2021年特許取得件数
2020年特許出願件数	2020年特許取得件数
2019年特許出願件数	2019年特許取得件数
2018年特許出願件数	2018年特許取得件数
2017年特許出願件数	2017年特許取得件数
2016年特許出願件数	2016年特許取得件数
2015年特許出願件数	2015年特許取得件数
2014年特許出願件数	2014年特許取得件数
2013年特許出願件数	2013年特許取得件数
2012年特許出願件数	2012年特許取得件数
2011年特許出願件数	2011年特許取得件数