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■ 2024年 出願公開件数ランキング 第253位 138件
(2023年:第318位 109件)
■ 2024年 特許取得件数ランキング 第258位 123件
(2023年:第281位 118件)
(ランキング更新日:2025年8月25日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特許 7607450 | 硬化性組成物、及び接合構造体の製造方法 | 2024年12月27日 | |
特許 7607573 | 分泌物産生細胞のスクリーニング方法、及び分泌物産生細胞のスクリーニングキット | 2024年12月27日 | |
特許 7606876 | ルテニウム含有層を洗浄又はエッチングするために用いられる薬液、及びルテニウム配線の製造方法 | 2024年12月26日 | |
特許 7603383 | ポジ型感光性樹脂組成物、パターニングされたレジスト膜の形成方法、及びパターニングされたレジスト膜 | 2024年12月20日 | |
特許 7603442 | ネガ型感光性樹脂組成物及びパターン形成方法 | 2024年12月20日 | |
特許 7603597 | 細胞スクリーニングデバイスおよび細胞スクリーニングキット | 2024年12月20日 | |
特許 7603763 | 化学増幅型ポジ型感光性組成物、感光性ドライフィルム、感光性ドライフィルムの製造方法、パターン化されたレジスト膜の製造方法及び酸拡散抑制剤 | 2024年12月20日 | |
特許 7594374 | ネガ型感光性樹脂組成物、パターン形成方法及び積層フィルム | 2024年12月 4日 | |
特許 7588465 | レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 | 2024年11月22日 | |
特許 7588474 | レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 | 2024年11月22日 | |
特許 7587352 | 感光性組成物、硬化物、硬化物の製造方法及び光重合性組成物 | 2024年11月20日 | |
特許 7587418 | 半導体素子の製造方法、及び半導体素子の製造方法において用いられる薬液 | 2024年11月20日 | |
特許 7584275 | エッチング液、及び半導体素子の製造方法 | 2024年11月15日 | |
特許 7583669 | 表面処理方法、基板表面の領域選択的製膜方法及び表面処理剤 | 2024年11月14日 | |
特許 7576800 | 電波吸収体フィルム、及びその製造方法 | 2024年11月 1日 |
126 件中 1-15 件を表示
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7607450 7607573 7606876 7603383 7603442 7603597 7603763 7594374 7588465 7588474 7587352 7587418 7584275 7583669 7576800
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