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東京応化工業株式会社
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■ 2014年 出願公開件数ランキング 第266位 159件
（
2013年：第230位 206件）
■ 2014年 特許取得件数ランキング 第204位 207件
（2013年：第194位 216件）
（ランキング更新日：2025年6月5日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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東京応化工業株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 5439154 | ポジ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 | 2014年 3月12日 | |
| 特許 5439139 | ポジ型レジスト組成物、レジストパターン形成方法 | 2014年 3月12日 | |
| 特許 5439020 | ポジ型レジスト組成物、ポジ型レジストパターン形成方法 | 2014年 3月12日 | |
| 特許 5438940 | レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 | 2014年 3月12日 | |
| 特許 5438907 | チタン除去液及びチタン被膜の除去方法 | 2014年 3月12日 | |
| 特許 5437027 | 感光性樹脂組成物及び液晶パネル | 2014年 3月12日 | |
| 特許 5439124 | レジスト組成物、レジストパターン形成方法 | 2014年 3月12日 | |
| 特許 5438959 | パターン形成方法 | 2014年 3月12日 | |
| 特許 5438958 | パターン形成方法および反転パターン形成用材料 | 2014年 3月12日 | |
| 特許 5433152 | 室温インプリント用膜形成組成物、並びに構造体の製造方法及び構造体 | 2014年 3月 5日 | |
| 特許 5433278 | 液体容器へのレジスト液充填方法 | 2014年 3月 5日 | |
| 特許 5436201 | ポジ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 | 2014年 3月 5日 | |
| 特許 5436174 | ポジ型レジスト組成物、レジストパターン形成方法 | 2014年 3月 5日 | |
| 特許 5436028 | レジスト液回収方法 | 2014年 3月 5日 | |
| 特許 5433279 | 再生レジストの製造方法 | 2014年 3月 5日 |
207 件中 151-165 件を表示
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5439154 5439139 5439020 5438940 5438907 5437027 5439124 5438959 5438958 5433152 5433278 5436201 5436174 5436028 5433279
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