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東京応化工業株式会社
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■ 2013年 出願公開件数ランキング 第230位 206件
（
2012年：第333位 124件）
■ 2013年 特許取得件数ランキング 第194位 216件
（2012年：第259位 143件）
（ランキング更新日：2024年11月26日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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東京応化工業株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 5205027 | 化合物の製造方法 | 2013年 6月 5日 | |
| 特許 5202832 | ウエハ回路面の保護方法及びウエハ薄化方法 | 2013年 6月 5日 | |
| 特許 5193513 | 化合物、酸発生剤、レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 | 2013年 5月 8日 | |
| 特許 5188759 | 塗布装置及び塗布方法 | 2013年 4月24日 | |
| 特許 5189851 | 無機被膜形成用組成物 | 2013年 4月24日 | |
| 特許 5190000 | ポジ型レジスト組成物及びこれを用いたレジストパターンの形成方法 | 2013年 4月24日 | |
| 特許 5189909 | リフトオフ用ポジ型レジスト組成物 | 2013年 4月24日 | |
| 特許 5186161 | 塗布装置及び塗布装置のクリーニング方法 | 2013年 4月17日 | |
| 特許 5186303 | レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 | 2013年 4月17日 | |
| 特許 5186249 | 新規な化合物およびその製造方法、酸発生剤、レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 | 2013年 4月17日 | |
| 特許 5184134 | レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 | 2013年 4月17日 | |
| 特許 5186224 | 基板処置装置 | 2013年 4月17日 | |
| 特許 5183183 | 除電装置 | 2013年 4月17日 | |
| 特許 5178220 | レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 | 2013年 4月10日 | |
| 特許 5173543 | ポジ型感光性樹脂組成物 | 2013年 4月 3日 |
216 件中 166-180 件を表示
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5205027 5202832 5193513 5188759 5189851 5190000 5189909 5186161 5186303 5186249 5184134 5186224 5183183 5178220 5173543
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