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■ 2013年 出願公開件数ランキング 第230位 206件
(2012年:第333位 124件)
■ 2013年 特許取得件数ランキング 第194位 216件
(2012年:第259位 143件)
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
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特許 5173543 | ポジ型感光性樹脂組成物 | 2013年 4月 3日 | |
特許 5173642 | ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 | 2013年 4月 3日 | |
特許 5172494 | 液浸露光用レジスト組成物、レジストパターン形成方法、含フッ素高分子化合物 | 2013年 3月27日 | |
特許 5172505 | ネガ型レジスト組成物およびそれを用いたレジストパターン形成方法 | 2013年 3月27日 | |
特許 5165227 | 化合物および高分子化合物 | 2013年 3月21日 | 共同出願 |
特許 5162423 | ポジ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 | 2013年 3月13日 | |
特許 5162399 | ポジ型レジスト組成物、レジストパターン形成方法、高分子化合物 | 2013年 3月13日 | |
特許 5162292 | ポジ型レジスト材料およびレジストパターン形成方法 | 2013年 3月13日 | |
特許 5156442 | 着色感光性樹脂組成物、ブラックマトリックス、カラーフィルター、及び液晶表示ディスプレイ | 2013年 3月 6日 | |
特許 5150327 | 液浸露光用レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 | 2013年 2月20日 | |
特許 5144977 | 洗浄装置、洗浄方法、予備吐出装置、塗布装置及び予備吐出方法 | 2013年 2月13日 | |
特許 5144976 | 洗浄装置、洗浄方法、予備吐出装置、及び塗布装置 | 2013年 2月13日 | |
特許 5145027 | レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 | 2013年 2月13日 | |
特許 5138916 | パターン形成方法 | 2013年 2月 6日 | |
特許 5138174 | 非化学増幅主鎖分解型ポジ型レジスト組成物 | 2013年 2月 6日 |
216 件中 181-195 件を表示
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5173543 5173642 5172494 5172505 5165227 5162423 5162399 5162292 5156442 5150327 5144977 5144976 5145027 5138916 5138174
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パテントマップを用いた知財戦略の策定方法 -自社が勝つパテントマップ作成と それを活用した開発戦略・知財戦略の実践方法- <東京会場受講(対面)/Zoomオンライン受講 選択可> <見逃し視聴選択可>
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