特許ランキング - 出願人詳細情報 -

東京応化工業株式会社

※ ログインすれば出願人(東京応化工業株式会社)をリストに登録できます。ログインについて

　■　2013年出願公開件数ランキング　　　第230位　206件（2012年：第333位　124件）

　■　2013年特許取得件数ランキング　　　第194位　216件（2012年：第259位　143件）

（ランキング更新日：2025年6月3日）筆頭出願人である出願のみカウントしています

2011年 2012年 2014年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年 2025年

東京応化工業株式会社の商標一覧

公報番号	発明の名称	公報発行日
特許 5138916	パターン形成方法	2013年 2月 6日
特許 5138174	非化学増幅主鎖分解型ポジ型レジスト組成物	2013年 2月 6日
特許 5138157	ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法	2013年 2月 6日
特許 5134317	減圧処理装置および減圧処理方法	2013年 1月30日
特許 5133002	マイクロレンズ形成用感光性樹脂組成物、マイクロレンズ、およびマイクロレンズの形成方法	2013年 1月30日
特許 5129988	高分子化合物、ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法	2013年 1月30日
特許 5130019	ネガ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法	2013年 1月30日
特許 5127127	塗膜形成方法	2013年 1月23日
特許 5128105	化合物、ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法	2013年 1月23日
特許 5124322	化合物、酸発生剤、レジスト組成物及びレジストパターン形成方法	2013年 1月23日
特許 5124260	化合物の製造方法	2013年 1月23日
特許 5128398	パターン微細化用被覆剤、及びそれを用いた微細パターンの形成方法	2013年 1月23日
特許 5128044	シリコン基板又は金属配線パターンが設けられたシリコン基板被覆用シリカ系被膜形成用材料の製造方法	2013年 1月23日
特許 5124255	レジスト組成物およびレジストパターン形成方法	2013年 1月23日
特許 5122168	着色感光性樹脂組成物、カラーフィルター、及び液晶表示ディスプレイ	2013年 1月16日

216 件中 196-210 件を表示

... 14

※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。

このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー

5138916 5138174 5138157 5134317 5133002 5129988 5130019 5127127 5128105 5124322 5124260 5128398 5128044 5124255 5122168

※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。東京応化工業株式会社の知財の動向チェックに便利です。

ログインについて

ランキング一覧に戻る

特許ランキング

2025年特許出願件数	2025年特許取得件数
2024年特許出願件数	2024年特許取得件数
2023年特許出願件数	2023年特許取得件数
2022年特許出願件数	2022年特許取得件数
2021年特許出願件数	2021年特許取得件数
2020年特許出願件数	2020年特許取得件数
2019年特許出願件数	2019年特許取得件数
2018年特許出願件数	2018年特許取得件数
2017年特許出願件数	2017年特許取得件数
2016年特許出願件数	2016年特許取得件数
2015年特許出願件数	2015年特許取得件数
2014年特許出願件数	2014年特許取得件数
2012年特許出願件数	2012年特許取得件数
2011年特許出願件数	2011年特許取得件数