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■ 2013年 出願公開件数ランキング 第230位 206件 (2012年:第333位 124件)
■ 2013年 特許取得件数ランキング 第194位 216件 (2012年:第259位 143件)
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特許 5138916 | パターン形成方法 | 2013年 2月 6日 | |
特許 5138174 | 非化学増幅主鎖分解型ポジ型レジスト組成物 | 2013年 2月 6日 | |
特許 5138157 | ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 | 2013年 2月 6日 | |
特許 5134317 | 減圧処理装置および減圧処理方法 | 2013年 1月30日 | |
特許 5133002 | マイクロレンズ形成用感光性樹脂組成物、マイクロレンズ、およびマイクロレンズの形成方法 | 2013年 1月30日 | |
特許 5129988 | 高分子化合物、ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 | 2013年 1月30日 | |
特許 5130019 | ネガ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 | 2013年 1月30日 | |
特許 5127127 | 塗膜形成方法 | 2013年 1月23日 | |
特許 5128105 | 化合物、ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 | 2013年 1月23日 | |
特許 5124322 | 化合物、酸発生剤、レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 | 2013年 1月23日 | |
特許 5124260 | 化合物の製造方法 | 2013年 1月23日 | |
特許 5128398 | パターン微細化用被覆剤、及びそれを用いた微細パターンの形成方法 | 2013年 1月23日 | |
特許 5128044 | シリコン基板又は金属配線パターンが設けられたシリコン基板被覆用シリカ系被膜形成用材料の製造方法 | 2013年 1月23日 | |
特許 5124255 | レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 | 2013年 1月23日 | |
特許 5122168 | 着色感光性樹脂組成物、カラーフィルター、及び液晶表示ディスプレイ | 2013年 1月16日 |
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5138916 5138174 5138157 5134317 5133002 5129988 5130019 5127127 5128105 5124322 5124260 5128398 5128044 5124255 5122168
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12月1日(日) -
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12月6日(金) - 愛知 豊橋市花田町
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