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■ 2012年 出願公開件数ランキング 第333位 124件 (2011年:第366位 107件)
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特許 5074719 | ウエハを薄くする方法及びサポートプレート | 2012年11月14日 | |
特許 5074940 | 基板の処理方法 | 2012年11月14日 | |
特許 5073839 | 液浸露光用レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 | 2012年11月14日 | |
特許 5073230 | 支持ピン | 2012年11月14日 | |
特許 5068526 | 高分子化合物、レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 | 2012年11月 7日 | |
特許 5065963 | レジストパターン形成方法 | 2012年11月 7日 | |
特許 5068469 | 化合物および膜形成用組成物 | 2012年11月 7日 | |
特許 5052921 | 高分子化合物、ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 | 2012年10月17日 | |
特許 5048980 | 接着剤組成物、接着フィルムおよび剥離方法 | 2012年10月17日 | |
特許 5049935 | ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 | 2012年10月17日 | |
特許 5047881 | 窒化チタン剥離液、及び窒化チタン被膜の剥離方法 | 2012年10月10日 | |
特許 5047712 | 窒化チタン剥離液、及び窒化チタン被膜の剥離方法 | 2012年10月10日 | |
特許 5041827 | 塗布装置 | 2012年10月 3日 | |
特許 5039442 | 感光性樹脂組成物、感光性樹脂積層体、及びパターン形成方法 | 2012年10月 3日 | |
特許 5038695 | 処理装置および表面処理治具 | 2012年10月 3日 |
143 件中 16-30 件を表示
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5074719 5074940 5073839 5073230 5068526 5065963 5068469 5052921 5048980 5049935 5047881 5047712 5041827 5039442 5038695
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11月28日(木) - 東京 港区
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11月28日(木) - 京都 京都市
11月28日(木) -
11月28日(木) - 大阪 大阪市
11月28日(木) -
11月29日(金) - 東京 港区
11月29日(金) - 茨城 ひたちなか市
11月30日(土) -
12月1日(日) -
12月1日(日) -
11月28日(木) - 東京 港区
12月2日(月) - 滋賀 草津市
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12月2日(月) -
12月4日(水) - 東京 千代田区
12月4日(水) - 東京 港区
12月4日(水) -
12月4日(水) - 大阪 大阪市
12月4日(水) -
12月4日(水) -
12月5日(木) - 東京 港区
12月5日(木) -
12月5日(木) -
12月5日(木) - 大阪 大阪市
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12月6日(金) -
12月6日(金) - 愛知 豊橋市花田町
12月6日(金) -
12月2日(月) - 滋賀 草津市
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