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■ 2013年 出願公開件数ランキング 第230位 206件 (2012年:第333位 124件)
■ 2013年 特許取得件数ランキング 第194位 216件 (2012年:第259位 143件)
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特許 5364436 | レジスト組成物、レジストパターン形成方法、新規な化合物、および酸発生剤 | 2013年12月11日 | |
特許 5364250 | 窒化チタン剥離液、及び窒化チタン被膜の剥離方法 | 2013年12月11日 | |
特許 5358211 | ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 | 2013年12月 4日 | |
特許 5357570 | 感光性樹脂組成物、カラーフィルター、及び液晶表示ディスプレイ | 2013年12月 4日 | |
特許 5357442 | インクジェット用拡散剤組成物、当該組成物を用いた電極及び太陽電池の製造方法 | 2013年12月 4日 | |
特許 5358112 | レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 | 2013年12月 4日 | |
特許 5358319 | 接着剤組成物および接着フィルム | 2013年12月 4日 | |
特許 5352199 | レジスト組成物、レジストパターン形成方法、新規な化合物および酸発生剤 | 2013年11月27日 | |
特許 5352156 | 熱処理装置 | 2013年11月27日 | |
特許 5352127 | ポジ型レジスト組成物、レジストパターン形成方法および高分子化合物 | 2013年11月27日 | |
特許 5352120 | レジスト組成物、レジストパターン形成方法、新規な化合物、および該化合物からなるクエンチャー | 2013年11月27日 | |
特許 5355881 | 塗布装置 | 2013年11月27日 | |
特許 5352080 | ノズル洗浄装置、ノズル洗浄方法、塗布装置及び塗布方法 | 2013年11月27日 | |
特許 5346627 | ポジ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 | 2013年11月20日 | |
特許 5349770 | 塗布装置及び塗布方法 | 2013年11月20日 |
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5364436 5364250 5358211 5357570 5357442 5358112 5358319 5352199 5352156 5352127 5352120 5355881 5352080 5346627 5349770
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