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東京応化工業株式会社
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■ 2011年 出願公開件数ランキング 第366位 107件
（
2010年：第258位 187件）
■ 2011年 特許取得件数ランキング 第252位 139件
（
2010年：第315位 98件）
（ランキング更新日：2024年11月22日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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東京応化工業株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 4767829 | リソグラフィー用洗浄剤及びそれを用いたレジストパターン形成方法 | 2011年 9月 7日 | |
| 特許 4763390 | 感光性樹脂組成物 | 2011年 8月31日 | |
| 特許 4762867 | ホトリソグラフィ用洗浄液およびこれを用いた基板の洗浄方法 | 2011年 8月31日 | |
| 特許 4762829 | パターン微細化用被覆形成剤およびそれを用いた微細パターンの形成方法 | 2011年 8月31日 | |
| 特許 4762821 | ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 | 2011年 8月31日 | |
| 特許 4762630 | レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 | 2011年 8月31日 | |
| 特許 4754265 | ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 | 2011年 8月24日 | |
| 特許 4754421 | ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 | 2011年 8月24日 | |
| 特許 4757766 | 液浸露光用ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 | 2011年 8月24日 | |
| 特許 4754457 | ディスペンサ | 2011年 8月24日 | |
| 特許 4756963 | カラーフィルタ用感光性樹脂組成物およびこれを用いたカラーフィルタ | 2011年 8月24日 | |
| 特許 4757525 | シリカ系被膜形成用組成物 | 2011年 8月24日 | |
| 特許 4755573 | 処理装置および処理方法、ならびに表面処理治具 | 2011年 8月24日 | |
| 特許 4757524 | シリカ系被膜形成用組成物 | 2011年 8月24日 | |
| 特許 4757532 | 電子線用ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 | 2011年 8月24日 |
139 件中 46-60 件を表示
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4767829 4763390 4762867 4762829 4762821 4762630 4754265 4754421 4757766 4754457 4756963 4757525 4755573 4757524 4757532
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