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■ 2011年 出願公開件数ランキング 第366位 107件 (2010年:第258位 187件)
■ 2011年 特許取得件数ランキング 第252位 139件 (2010年:第315位 98件)
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特許 4749664 | 電子材料用粗樹脂の精製方法、化学増幅型ホトレジスト組成物及びその製造方法 | 2011年 8月17日 | |
特許 4749760 | 三次元微小成形体の製造方法 | 2011年 8月17日 | |
特許 4750724 | 重ね合わせユニット及び貼り合わせ装置 | 2011年 8月17日 | |
特許 4745174 | 保護膜除去後の除去液回収システムおよび保護膜除去後の除去液回収方法 | 2011年 8月10日 | 共同出願 |
特許 4745092 | 黒色感光性組成物、この黒色感光性組成物より製造された遮光膜及びEL素子 | 2011年 8月10日 | |
特許 4745093 | 黒色感光性組成物 | 2011年 8月10日 | |
特許 4745110 | 感光性組成物及びこの感光性組成物により形成されたカラーフィルタ | 2011年 8月10日 | |
特許 4745146 | 着色感光性樹脂組成物 | 2011年 8月10日 | |
特許 4738803 | 高分子化合物、ポジ型レジスト組成物、およびレジストパターン形成方法 | 2011年 8月 3日 | |
特許 4732038 | 化合物、ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 | 2011年 7月27日 | |
特許 4732046 | レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 | 2011年 7月27日 | |
特許 4727344 | 感光性組成物 | 2011年 7月20日 | |
特許 4727092 | 化学増幅型レジスト組成物 | 2011年 7月20日 | |
特許 4730771 | 処理液供給ノズル及び基板処理装置 | 2011年 7月20日 | |
特許 4722417 | 化合物、高分子化合物、ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 | 2011年 7月13日 |
139 件中 61-75 件を表示
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4749664 4749760 4750724 4745174 4745092 4745093 4745110 4745146 4738803 4732038 4732046 4727344 4727092 4730771 4722417
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12月1日(日) -
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12月5日(木) -
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12月6日(金) - 愛知 豊橋市花田町
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