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東京応化工業株式会社
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■ 2013年 出願公開件数ランキング 第230位 206件
（
2012年：第333位 124件）
■ 2013年 特許取得件数ランキング 第194位 216件
（2012年：第259位 143件）
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東京応化工業株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 5314922 | 化合物、ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 | 2013年10月16日 | |
| 特許 5314995 | レジスト組成物、レジストパターン形成方法、化合物、酸発生剤 | 2013年10月16日 | |
| 特許 5314990 | 液浸露光用レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 | 2013年10月16日 | |
| 特許 5308871 | レジスト組成物、レジストパターン形成方法 | 2013年10月 9日 | |
| 特許 5308524 | 接着剤組成物 | 2013年10月 9日 | 共同出願 |
| 特許 5308647 | 浮上搬送塗布装置 | 2013年10月 9日 | |
| 特許 5308678 | 化合物の製造方法、化合物 | 2013年10月 9日 | |
| 特許 5308657 | 非イオン性感光性化合物、酸発生剤、レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 | 2013年10月 9日 | |
| 特許 5308877 | ポジ型レジスト組成物、レジストパターン形成方法 | 2013年10月 9日 | |
| 特許 5308876 | ポジ型レジスト組成物、レジストパターン形成方法 | 2013年10月 9日 | |
| 特許 5308896 | ポジ型レジスト組成物、レジストパターン形成方法 | 2013年10月 9日 | |
| 特許 5313740 | 感光性樹脂組成物及び液晶パネル | 2013年10月 9日 | |
| 特許 5308874 | ポジ型レジスト組成物、レジストパターン形成方法、高分子化合物、化合物 | 2013年10月 9日 | |
| 特許 5303122 | 高分子化合物、ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 | 2013年10月 2日 | |
| 特許 5303142 | 含フッ素化合物、含フッ素高分子化合物、液浸露光用レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 | 2013年10月 2日 |
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5314922 5314995 5314990 5308871 5308524 5308647 5308678 5308657 5308877 5308876 5308896 5313740 5308874 5303122 5303142
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