特許ランキング - 出願人詳細情報 -

東京応化工業株式会社

※ ログインすれば出願人(東京応化工業株式会社)をリストに登録できます。ログインについて

　■　2011年出願公開件数ランキング　　　第366位　107件（2010年：第258位　187件）

　■　2011年特許取得件数ランキング　　　第252位　139件（2010年：第315位　98件）

（ランキング更新日：2024年11月29日）筆頭出願人である出願のみカウントしています

2012年 2013年 2014年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年

東京応化工業株式会社の商標一覧

公報番号	発明の名称	公報発行日
特許 4721828	サポートプレートの剥離方法	2011年 7月13日
特許 4722417	化合物、高分子化合物、ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法	2011年 7月13日
特許 4717612	スプレー塗布用ホトレジスト組成物および積層体	2011年 7月 6日
特許 4717732	ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法	2011年 7月 6日
特許 4717640	液浸露光用レジスト組成物およびレジストパターン形成方法	2011年 7月 6日
特許 4713234	ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法	2011年 6月29日
特許 4713235	ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法	2011年 6月29日
特許 4707987	化学増幅型ポジ型ホトレジスト組成物	2011年 6月22日
特許 4708194	金属パターン形成材料及び金属パターンの形成方法	2011年 6月22日
特許 4708113	レジスト組成物、レジストパターン形成方法	2011年 6月22日
特許 4704228	レジスト液供給装置及び当該レジスト液供給装置を得るための改造キット	2011年 6月15日
特許 4694686	半導体素子製造方法	2011年 6月 8日
特許 4699140	パターン形成方法	2011年 6月 8日
特許 4694153	高分子化合物、該高分子化合物を含有するフォトレジスト組成物、およびレジストパターン形成方法	2011年 6月 8日
特許 4699329	液体薬品の分配装置及び分配方法	2011年 6月 8日

139 件中 76-90 件を表示

... 6

※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。

このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー

4721828 4722417 4717612 4717732 4717640 4713234 4713235 4707987 4708194 4708113 4704228 4694686 4699140 4694153 4699329

※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。東京応化工業株式会社の知財の動向チェックに便利です。

ログインについて

ランキング一覧に戻る

特許ランキング

2024年特許出願件数	2024年特許取得件数
2023年特許出願件数	2023年特許取得件数
2022年特許出願件数	2022年特許取得件数
2021年特許出願件数	2021年特許取得件数
2020年特許出願件数	2020年特許取得件数
2019年特許出願件数	2019年特許取得件数
2018年特許出願件数	2018年特許取得件数
2017年特許出願件数	2017年特許取得件数
2016年特許出願件数	2016年特許取得件数
2015年特許出願件数	2015年特許取得件数
2014年特許出願件数	2014年特許取得件数
2013年特許出願件数	2013年特許取得件数
2012年特許出願件数	2012年特許取得件数