特許ランキング - 出願人詳細情報 -

東京応化工業株式会社

※ ログインすれば出願人(東京応化工業株式会社)をリストに登録できます。ログインについて

　■　2012年出願公開件数ランキング　　　第333位　124件（2011年：第366位　107件）

　■　2012年特許取得件数ランキング　　　第259位　143件（2011年：第252位　139件）

（ランキング更新日：2024年11月29日）筆頭出願人である出願のみカウントしています

2011年 2013年 2014年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年

東京応化工業株式会社の商標一覧

公報番号	発明の名称	公報発行日	備考
特許 4949809	着色感光性樹脂組成物	2012年 6月13日
特許 4949692	低屈折率シリカ系被膜形成用組成物	2012年 6月13日
特許 4948798	化合物、ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法	2012年 6月 6日
特許 4942589	塗布装置及び塗布方法	2012年 5月30日
特許 4942925	高分子化合物、ポジ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法	2012年 5月30日
特許 4943428	感光性樹脂組成物及びパターン形成方法	2012年 5月30日
特許 4937594	厚膜レジスト膜形成用のポジ型レジスト組成物、厚膜レジスト積層体およびレジストパターン形成方法	2012年 5月23日
特許 4937587	液浸露光用ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法	2012年 5月23日
特許 4933063	パターン形成方法	2012年 5月16日	共同出願
特許 4926563	流体用容器及びそれを用いた流体入り容器	2012年 5月 9日
特許 4925954	ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法	2012年 5月 9日
特許 4928356	反射防止膜形成用組成物、及びこれを用いたレジストパターン形成方法	2012年 5月 9日
特許 4922752	孔あきサポートプレート	2012年 4月25日
特許 4920271	ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法	2012年 4月18日
特許 4918095	レジスト保護膜形成用組成物及びこれを用いたレジストパターンの形成方法	2012年 4月18日

143 件中 91-105 件を表示

... 7

※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。

このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー

4949809 4949692 4948798 4942589 4942925 4943428 4937594 4937587 4933063 4926563 4925954 4928356 4922752 4920271 4918095

※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。東京応化工業株式会社の知財の動向チェックに便利です。

ログインについて

ランキング一覧に戻る

特許ランキング

2024年特許出願件数	2024年特許取得件数
2023年特許出願件数	2023年特許取得件数
2022年特許出願件数	2022年特許取得件数
2021年特許出願件数	2021年特許取得件数
2020年特許出願件数	2020年特許取得件数
2019年特許出願件数	2019年特許取得件数
2018年特許出願件数	2018年特許取得件数
2017年特許出願件数	2017年特許取得件数
2016年特許出願件数	2016年特許取得件数
2015年特許出願件数	2015年特許取得件数
2014年特許出願件数	2014年特許取得件数
2013年特許出願件数	2013年特許取得件数
2011年特許出願件数	2011年特許取得件数