特許ランキング - 出願人詳細情報 -

東京応化工業株式会社

※ ログインすれば出願人(東京応化工業株式会社)をリストに登録できます。ログインについて

　■　2014年出願公開件数ランキング　　　第266位　159件（2013年：第230位　206件）

　■　2014年特許取得件数ランキング　　　第204位　207件（2013年：第194位　216件）

（ランキング更新日：2025年2月18日）筆頭出願人である出願のみカウントしています

2011年 2012年 2013年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年 2025年

東京応化工業株式会社の商標一覧

公報番号	発明の名称	公報発行日
特許 5502438	多層レジスト積層体用剥離液及び多層レジスト積層体の処理方法	2014年 5月28日
特許 5507601	レジストパターン形成方法	2014年 5月28日
特許 5507113	ポジ型レジスト組成物、レジストパターン形成方法、高分子化合物および化合物	2014年 5月28日
特許 5507938	カラーフィルター用感光性樹脂組成物、カラーフィルター、及び液晶表示ディスプレイ	2014年 5月28日
特許 5507380	パターン形成方法	2014年 5月28日
特許 5501754	フォトリソグラフィ用現像液の製造方法及び製造装置	2014年 5月28日
特許 5501164	ポジ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法	2014年 5月21日
特許 5498768	リソグラフィー用洗浄液及び配線形成方法	2014年 5月21日
特許 5500925	ポジ型レジスト組成物、レジストパターン形成方法、高分子化合物	2014年 5月21日
特許 5500917	レジスト組成物及びレジストパターン形成方法、並びに含窒素高分子化合物	2014年 5月21日
特許 5500884	ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法	2014年 5月21日
特許 5498874	ポジ型感光性樹脂組成物	2014年 5月21日
特許 5497276	接着剤組成物の製造方法	2014年 5月21日
特許 5492441	レジストパターン形成方法	2014年 5月14日
特許 5489417	ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法	2014年 5月14日

207 件中 91-105 件を表示

... 7

※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。

このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー

5502438 5507601 5507113 5507938 5507380 5501754 5501164 5498768 5500925 5500917 5500884 5498874 5497276 5492441 5489417

※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。東京応化工業株式会社の知財の動向チェックに便利です。

ログインについて

ランキング一覧に戻る

特許ランキング

2025年特許出願件数	2025年特許取得件数
2024年特許出願件数	2024年特許取得件数
2023年特許出願件数	2023年特許取得件数
2022年特許出願件数	2022年特許取得件数
2021年特許出願件数	2021年特許取得件数
2020年特許出願件数	2020年特許取得件数
2019年特許出願件数	2019年特許取得件数
2018年特許出願件数	2018年特許取得件数
2017年特許出願件数	2017年特許取得件数
2016年特許出願件数	2016年特許取得件数
2015年特許出願件数	2015年特許取得件数
2013年特許出願件数	2013年特許取得件数
2012年特許出願件数	2012年特許取得件数
2011年特許出願件数	2011年特許取得件数