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東京応化工業株式会社
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■ 2012年 出願公開件数ランキング 第333位 124件
（
2011年：第366位 107件）
■ 2012年 特許取得件数ランキング 第259位 143件
（
2011年：第252位 139件）
（ランキング更新日：2024年11月29日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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東京応化工業株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 4917969 | 反射防止膜形成用組成物、及びこれを用いたレジストパターン形成方法 | 2012年 4月18日 | |
| 特許 4912733 | 液浸露光用レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 | 2012年 4月11日 | |
| 特許 4912227 | 加熱処理装置 | 2012年 4月11日 | |
| 特許 4909821 | レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 | 2012年 4月 4日 | |
| 特許 4906375 | 基板支持部材 | 2012年 3月28日 | |
| 特許 4901200 | 溶剤回収システム | 2012年 3月21日 | |
| 特許 4901323 | 基板処理装置 | 2012年 3月21日 | |
| 特許 4903096 | ポジ型ホトレジスト組成物およびレジストパターン形成方法 | 2012年 3月21日 | |
| 特許 4901191 | レジスト希釈システム | 2012年 3月21日 | |
| 特許 4898482 | 電子部品の製造方法 | 2012年 3月14日 | 共同出願 |
| 特許 4896755 | 液晶表示素子用平坦化絶縁膜形成用組成物および液晶表示素子用平坦化絶縁膜の製造方法 | 2012年 3月14日 | |
| 特許 4891004 | 感光性組成物及び金属配線パターン | 2012年 3月 7日 | |
| 特許 4890153 | レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 | 2012年 3月 7日 | |
| 特許 4889950 | 電子線またはＥＵＶ用ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 | 2012年 3月 7日 | |
| 特許 4890166 | ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 | 2012年 3月 7日 |
143 件中 106-120 件を表示
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4917969 4912733 4912227 4909821 4906375 4901200 4901323 4903096 4901191 4898482 4896755 4891004 4890153 4889950 4890166
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