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東京応化工業株式会社

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  2012年 出願公開件数ランキング    第333位 124件 上昇2011年:第366位 107件)

  2012年 特許取得件数ランキング    第259位 143件 下降2011年:第252位 139件)

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公報番号発明の名称公報発行日備考
特許 4884889 フォトレジスト用剥離液およびこれを用いた基板の処理方法 2012年 2月29日
特許 4884951 厚膜用化学増幅型ポジ型ホトレジスト組成物及び厚膜レジストパターンの製造方法 2012年 2月29日
特許 4884876 層間絶縁膜用感光性樹脂組成物 2012年 2月29日
特許 4884038 スリットノズル洗浄装置 2012年 2月22日
特許 4879559 化合物およびその製造方法 2012年 2月22日
特許 4878900 基板処理装置 2012年 2月15日
特許 4869977 下層膜用組成物及び多層レジストパターン形成方法 2012年 2月 8日
特許 4871786 パターン形成方法 2012年 2月 8日
特許 4871783 パターン形成方法 2012年 2月 8日
特許 4870202 レジストパターンの形成方法 2012年 2月 8日
特許 4869811 微細パターンの形成方法 2012年 2月 8日
特許 4866790 レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 2012年 2月 1日
特許 4866783 レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 2012年 2月 1日
特許 4866781 レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 2012年 2月 1日
特許 4865729 基板加工方法 2012年 2月 1日

143 件中 121-135 件を表示

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4884889 4884951 4884876 4884038 4879559 4878900 4869977 4871786 4871783 4870202 4869811 4866790 4866783 4866781 4865729

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