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東京応化工業株式会社
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■ 2013年 出願公開件数ランキング 第230位 206件
（
2012年：第333位 124件）
■ 2013年 特許取得件数ランキング 第194位 216件
（2012年：第259位 143件）
（ランキング更新日：2024年9月20日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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東京応化工業株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 5250309 | レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 | 2013年 7月31日 | |
| 特許 5250291 | ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 | 2013年 7月31日 | |
| 特許 5244446 | 塗布装置 | 2013年 7月24日 | |
| 特許 5244445 | 塗布装置 | 2013年 7月24日 | |
| 特許 5244657 | ポジ型レジスト組成物、レジストパターン形成方法、高分子化合物 | 2013年 7月24日 | |
| 特許 5238377 | スクリューキャップの取り外し方法およびスクリューキャップの取り外し装置 | 2013年 7月17日 | 共同出願 |
| 特許 5237548 | リチウム二次電池用負極基材 | 2013年 7月17日 | 共同出願 |
| 特許 5238023 | ポジ型感光性組成物 | 2013年 7月17日 | 共同出願 |
| 特許 5237547 | リチウム二次電池用負極基材 | 2013年 7月17日 | 共同出願 |
| 特許 5238581 | 液体容器 | 2013年 7月17日 | |
| 特許 5238216 | 化合物、酸発生剤、レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 | 2013年 7月17日 | |
| 特許 5238529 | ポジ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 | 2013年 7月17日 | |
| 特許 5238400 | ポジ型レジスト組成物、レジストパターン形成方法、高分子化合物、化合物 | 2013年 7月17日 | |
| 特許 5238399 | ポジ型レジスト組成物、レジストパターン形成方法、高分子化合物、化合物 | 2013年 7月17日 | |
| 特許 5238354 | レジストパターン形成方法 | 2013年 7月17日 |
216 件中 121-135 件を表示
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5250309 5250291 5244446 5244445 5244657 5238377 5237548 5238023 5237547 5238581 5238216 5238529 5238400 5238399 5238354
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