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■ 2011年 出願公開件数ランキング 第145位 311件 (2010年:第110位 439件)
■ 2011年 特許取得件数ランキング 第127位 281件 (2010年:第89位 319件)
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
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特許 4819814 | ハニカム構造体、及びハニカム触媒体 | 2011年11月24日 | |
特許 4823466 | エピタキシャル成長用基板および半導体素子 | 2011年11月24日 | |
特許 4820359 | プラズマ処理装置 | 2011年11月24日 | |
特許 4819537 | 選択透過膜型反応器及びそれを用いた水素製造方法 | 2011年11月24日 | |
特許 4820463 | 燃料電池セル及び固体酸化物型燃料電池 | 2011年11月24日 | |
特許 4814887 | ハニカム触媒体及びその製造方法 | 2011年11月16日 | |
特許 4814886 | ハニカム触媒体、及びハニカム触媒体の製造方法 | 2011年11月16日 | |
特許 4818300 | 電子部品焼成用セッター及びその製造方法 | 2011年11月16日 | 共同出願 |
特許 4809179 | 温度計測用断熱容器 | 2011年11月 9日 | |
特許 4811931 | 圧電薄膜デバイス | 2011年11月 9日 | 共同出願 |
特許 4811924 | 圧電薄膜デバイス | 2011年11月 9日 | 共同出願 |
特許 4812831 | NOxセンサの出力補正方法 | 2011年11月 9日 | |
特許 4805676 | セラミックス多孔質体及びその透過性能評価方法 | 2011年11月 2日 | |
特許 4805697 | 目封止ハニカム構造体の製造方法、及び目封止充填用冶具 | 2011年11月 2日 | |
特許 4808222 | プラズマ放電用電極装置 | 2011年11月 2日 |
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4819814 4823466 4820359 4819537 4820463 4814887 4814886 4818300 4809179 4811931 4811924 4812831 4805676 4805697 4808222
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11月26日(火) -
11月26日(火) -
11月26日(火) -
11月27日(水) - 東京 港区
11月27日(水) -
11月27日(水) -
11月27日(水) -
11月27日(水) -
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11月28日(木) - 京都 京都市
11月28日(木) -
11月28日(木) - 大阪 大阪市
11月28日(木) -
11月29日(金) - 東京 港区
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11月30日(土) -
12月1日(日) -
12月1日(日) -
11月25日(月) -
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