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株式会社ブイ・テクノロジー
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■ 2014年 出願公開件数ランキング 第606位 53件
（
2013年：第448位 90件）
■ 2014年 特許取得件数ランキング 第644位 49件
（
2013年：第712位 45件）
（ランキング更新日：2024年11月26日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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株式会社ブイ・テクノロジーの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 5495043 | レーザアニール方法、装置及びマイクロレンズアレイ | 2014年 5月21日 | |
| 特許 5495135 | 凸状パターン形成方法、露光装置及びフォトマスク | 2014年 5月21日 | |
| 特許 5481715 | レーザ加工装置及びレーザ加工方法 | 2014年 4月23日 | |
| 特許 5476519 | レーザ加工装置 | 2014年 4月23日 | |
| 特許 5481736 | フィルムの露光装置 | 2014年 4月23日 | |
| 特許 5477862 | フィルム露光装置及びフィルム露光方法 | 2014年 4月23日 | |
| 特許 5470519 | 薄膜トランジスタ、その製造方法及び液晶表示装置 | 2014年 4月16日 | |
| 特許 5471046 | レーザアニール方法及びレーザアニール装置 | 2014年 4月16日 | |
| 特許 5463461 | カラーフィルタの突起欠陥高さ測定器及びリペア装置 | 2014年 4月 9日 | |
| 特許 5458372 | 露光方法及び露光装置 | 2014年 4月 2日 | |
| 特許 5458391 | 露光装置 | 2014年 4月 2日 | |
| 特許 5424267 | マイクロレンズ露光装置 | 2014年 2月26日 | |
| 特許 5424271 | 露光装置 | 2014年 2月26日 | |
| 特許 5403458 | 表面形状測定方法及び表面形状測定装置 | 2014年 1月29日 | |
| 特許 5397850 | 微小突起除去装置、微小突起除去方法および微小突起除去テープ | 2014年 1月22日 |
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5495043 5495135 5481715 5476519 5481736 5477862 5470519 5471046 5463461 5458372 5458391 5424267 5424271 5403458 5397850
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