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株式会社ブイ・テクノロジー
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■ 2014年 出願公開件数ランキング 第606位 53件
（
2013年：第448位 90件）
■ 2014年 特許取得件数ランキング 第644位 49件
（
2013年：第712位 45件）
（ランキング更新日：2025年5月30日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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株式会社ブイ・テクノロジーの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 5388019 | 露光照明装置及び露光パターンの位置ずれ調整方法 | 2014年 1月15日 | |
| 特許 5382456 | 露光方法及び露光装置 | 2014年 1月 8日 | |
| 特許 5382412 | 露光装置及びフォトマスク | 2014年 1月 8日 | |
| 特許 5382899 | 露光装置 | 2014年 1月 8日 |
49 件中 46-49 件を表示
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5388019 5382456 5382412 5382899
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