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■ 2014年 出願公開件数ランキング 第152位 300件
(2013年:第158位 313件)
■ 2014年 特許取得件数ランキング 第168位 260件
(2013年:第176位 235件)
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特許 5588044 | 2次電池集電体用電解銅箔 | 2014年 9月10日 | |
特許 5588049 | 多層積層体の製造方法 | 2014年 9月10日 | |
特許 5587495 | C粒子が分散したFe−Pt系スパッタリングターゲット | 2014年 9月10日 | |
特許 5586916 | MoSi2製発熱体及び同発熱体の製造方法 | 2014年 9月10日 | |
特許 5587935 | Snめっき材 | 2014年 9月10日 | |
特許 5583777 | 金属ランタンターゲットの保管方法及び真空密封した金属ランタンターゲット | 2014年 9月 3日 | |
特許 5583794 | スパッタリングターゲット組立体 | 2014年 9月 3日 | |
特許 5583771 | ZnO−MgO系スパッタリングターゲット用焼結体 | 2014年 9月 3日 | |
特許 5578496 | タンタルスパッタリングターゲット | 2014年 8月27日 | |
特許 5579314 | 高純度鋳塊の溶解連続鋳造装置及び高純度鋳塊の溶解連続鋳造方法 | 2014年 8月27日 | |
特許 5576514 | 表面処理銅箔、積層板、プリント配線板及びプリント回路板 | 2014年 8月20日 | |
特許 5575320 | キャリア付き銅箔 | 2014年 8月20日 | |
特許 5575026 | 鉄・錫含有銅の処理装置および鉄・錫含有銅の処理方法 | 2014年 8月20日 | |
特許 5571196 | スパッタリング用チタンターゲット | 2014年 8月13日 | |
特許 5571435 | 銀メッキ銅微粉の製造方法 | 2014年 8月13日 |
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5588044 5588049 5587495 5586916 5587935 5583777 5583794 5583771 5578496 5579314 5576514 5575320 5575026 5571196 5571435
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