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ＪＸ日鉱日石金属株式会社
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■ 2011年 出願公開件数ランキング 第215位 199件
（
2010年：第1800位 14件）
■ 2011年 特許取得件数ランキング 第185位 194件
（2010年：第841位 28件）
（ランキング更新日：2025年2月27日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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ＪＸ日鉱日石金属株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 4731064 | 電解用アノード整列装置 | 2011年 7月20日 | |
| 特許 4728460 | 窒化ガリウム系化合物半導体単結晶の製造方法 | 2011年 7月20日 | |
| 特許 4723629 | 陰イオン交換樹脂を用いた銀の回収方法 | 2011年 7月13日 | |
| 特許 4723106 | 金属インジウムの回収方法 | 2011年 7月13日 | |
| 特許 4723668 | ターゲットバッキングプレート組立体 | 2011年 7月13日 | |
| 特許 4721904 | 金属の表面処理剤 | 2011年 7月13日 | |
| 特許 4723602 | 電解液中に含まれるニカワの濃度分析方法 | 2011年 7月13日 | |
| 特許 4717908 | 銅を含有する塩化物浴からの銅の回収方法 | 2011年 7月 6日 | |
| 特許 4717917 | スコロダイトの製造方法及び洗浄方法 | 2011年 7月 6日 | |
| 特許 4717247 | スパッタリング用ターゲット及びその製造方法 | 2011年 7月 6日 | |
| 特許 4716520 | 圧延銅箔 | 2011年 7月 6日 | |
| 特許 4711244 | スパッタリングターゲット | 2011年 6月29日 | |
| 特許 4714583 | エピタキシャル成長方法 | 2011年 6月29日 | |
| 特許 4711435 | 無電解金めっき液 | 2011年 6月29日 | |
| 特許 4711415 | 無電解めっき前処理剤、それを用いる無電解めっき方法、及び無電解めっき物 | 2011年 6月29日 |
194 件中 91-105 件を表示
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4731064 4728460 4723629 4723106 4723668 4721904 4723602 4717908 4717917 4717247 4716520 4711244 4714583 4711435 4711415
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